[实用新型]研磨垫及研磨系统

说明书

本实用新型实施方式提供一种研磨垫及研磨系统。研磨垫具有研磨液连通区域以及彼此相对的研磨面及背面，且包括多个穿孔及至少一连接沟槽。多个穿孔位于研磨液连通区域内，且分别贯穿研磨面及背面。至少一连接沟槽配置于背面中且位于研磨液连通区域内，以及至少一连接沟槽连接多个穿孔。研磨液连通区域位于研磨垫的半径20％至50％之内的中央区域。所述研磨垫及研磨系统使研磨液具有特别的流场分布。

技术领域

本实用新型涉及一种研磨垫、研磨系统及研磨方法，尤其涉及一种具有特别的流场分布的研磨垫、研磨系统及研磨方法。

背景技术

在产业的元件制造过程中，研磨制程是现今较常使用来使被研磨的物件表面达到平坦化的一种技术。一般来说，研磨制程是通过供应在物件的表面及研磨垫之间的研磨液带来的化学作用，以及通过物件与研磨垫彼此进行相对运动所产生的机械摩擦来进行平坦化。通过研磨制程参数调整或研磨垫的沟槽设计，可以得到对应的研磨液流场分布。然而，随着产业的发展，各种不同研磨制程应用所需求的研磨液流场分布不同。因此，仍有需求提供得以使研磨液具有特别的流场分布，以供产业所选择。

实用新型内容

本实用新型提供一种研磨垫、研磨系统以及研磨方法，其使研磨液具有特别的流场分布。

本实用新型的研磨垫具有彼此相对的研磨面及背面，具有研磨液连通区域，且包括多个穿孔以及至少一连接沟槽。多个穿孔位于研磨液连通区域内，其中多个穿孔分别贯穿研磨面及背面。至少一连接沟槽配置于背面中且位于研磨液连通区域内，其中至少一连接沟槽连接多个穿孔，以及研磨液连通区域位于研磨垫的半径20％至50％之内的中央区域。

在本实用新型的一实施例中，所述至少一连接沟槽的延伸方向为所述研磨垫的半径方向。

在本实用新型的一实施例中，所述至少一连接沟槽的分布形状包括米字形、ㄚ字形、十字形或一字形。

在本实用新型的一实施例中，所述至少一连接沟槽距离所述背面具有连接沟槽深度，所述连接沟槽深度相对于所述研磨垫的厚度为介于5％至50％之间。

在本实用新型的一实施例中，所述多个穿孔包括内围穿孔及外围穿孔，其中所述内围穿孔的孔径小于所述外围穿孔的孔径。

在本实用新型的一实施例中，所述多个穿孔包括中心穿孔，其中所述中心穿孔在所述多个穿孔中具有最小的孔径。

在本实用新型的一实施例中，所述研磨垫的旋转轴心与所述研磨液连通区域的中心相重叠。

在本实用新型的一实施例中，所述研磨垫的旋转轴心与所述多个穿孔中的一者相重叠。

在本实用新型的一实施例中，还包括至少一研磨沟槽，配置于所述研磨面中。

在本实用新型的一实施例中，所述多个穿孔连接所述至少一研磨沟槽。

在本实用新型的一实施例中，所述至少一研磨沟槽距离所述研磨面具有研磨沟槽深度，所述研磨沟槽深度相对于所述研磨垫的厚度为介于10％至80％之间。

本实用新型的研磨垫适用于研磨物件，研磨垫具有对应于物件的恒定轨迹区域及环绕恒定轨迹区域的循环轨迹区域，且研磨垫包括彼此相对的研磨面及背面，多个穿孔以及至少一连接沟槽。多个穿孔分别贯穿研磨面及背面。至少一连接沟槽配置于背面中且连接多个穿孔，其中多个穿孔及至少一连接沟槽配置于恒定轨迹区域内。

在本实用新型的一实施例中，所述循环轨迹区域的面积大于所述恒定轨迹区域的面积。

在本实用新型的一实施例中，所述恒定轨迹区域位于所述研磨垫的半径20％至50％之内的中央区域。

在本实用新型的一实施例中，所述至少一连接沟槽的延伸方向为所述研磨垫的半径方向。