[实用新型]一种单晶硅生产设备专用气体回用装置有效

专利信息
申请号: 202021961805.X 申请日: 2020-09-09
公开(公告)号: CN213207280U 公开(公告)日: 2021-05-14
发明(设计)人: 张忠华;张俊;凌继贝;吴雄 申请(专利权)人: 内蒙古豪安能源科技有限公司
主分类号: F17D1/02 分类号: F17D1/02;F17D3/12;F17C6/00
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人: 刘永珍
地址: 014100 内蒙古自治区包头*** 国省代码: 内蒙古;15
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 单晶硅 生产 设备 专用 气体 装置
【说明书】:

实用新型公开了一种单晶硅生产设备专用气体回用装置,包括提纯箱、连接管、纯净气体储存罐、检测器、控制开关和电源线,通过在提纯箱顶部右端设置有辅助加料装置,通过控制开关启动驱动机构,驱动机构对滑动板施加推力,驱动机构带动滑动板在壳体内部下端活动,使滑动板上的落料孔进入壳体内,提纯原料通过落料孔落入提纯箱内,达到辅助加料的效果,通过在滑动板右端设置了驱动机构,通过控制开关启动电机,电机带动短杆摆动,短杆带动连接杆摆动,使推杆在滑槽内侧面进行滑动,推杆对滑动板施加推力,达到驱动滑动板活动的效果,本装置使用方便操作简单,有效的提高了工作效率。

技术领域

本实用新型具体是一种单晶硅生产设备专用气体回用装置,涉及单晶硅生产设备相关领域。

背景技术

单晶硅作为一种比较活泼的非金属元素晶体,是晶体材料的重要组成部分,处于新材料发展的前沿,单晶硅材料制造要经过如下过程:石英砂-冶金级硅- 提纯和精炼-沉积多晶硅锭-单晶硅-硅片切割,其主要用途是用作半导体材料和利用太阳能光伏发电、供热等,在单晶硅生产过程中需用到单晶硅生产设备专用气体回用装置。

但是单晶硅生产设备专用气体回用装置一般都是将气体导入第二净化罐内,通过第二净化罐和第一净化罐对气体净化,通过提纯箱对气体中的惰性气体进行提纯,在由进气口导入生产设备进行回用,但是传统单晶硅生产设备专用气体回用装置对于提纯箱加料效果较差,在使用过程中提纯箱内提纯原料不足,容易导致惰性气体纯度下降使单晶硅质量降低,同时传统单晶硅生产设备专用气体回用装置对于滑动板驱动效果较差,导致使用不方便。

实用新型内容

因此,为了解决上述不足,本实用新型在此提供一种单晶硅生产设备专用气体回用装置。

本实用新型是这样实现的,构造一种单晶硅生产设备专用气体回用装置,该装置包括提纯箱,所述提纯箱右端设置有连接管,所述提纯箱顶部右端设置有辅助加料装置,所述辅助加料装置包括壳体、盖子、滑动板、落料孔、弹簧、驱动机构和压杆,所述壳体顶部设置有盖子,所述滑动板与壳体内部下端活动连接,所述落料孔嵌入于滑动板顶部右端,所述弹簧一端与壳体右下端固定连接,并且弹簧另一端与滑动板右端固定连接,所述滑动板右端设置有驱动机构,所述压杆与滑动板顶部右端固定连接,所述壳体与提纯箱顶部右端固定连接。

优选的,所述连接管右端安装有纯净气体储存罐,所述纯净气体储存罐右端设置有检测器,所述检测器前端面固定有控制开关,所述控制开关右前端设置有电源线,所述提纯箱顶部左端设置有第一输气管,所述第一输气管顶部左端安装有第一电磁阀,所述第一输气管左端安装有第一净化罐,所述第一净化罐左端中部设置有第二输气管,所述第二输气管顶部左端安装有第二电磁阀,所述第二输气管左端设置有第二净化罐,所述第二净化罐顶部设置有进气口,所述第二净化罐底部等距固定有支撑腿,所述提纯箱内部下端设置有反应槽,所述纯净气体储存罐顶部设置有出气口。

优选的,所述驱动机构包括外壳、电机、固定杆、滑槽、连接杆、短杆和推杆,所述外壳背面上端安装有电机,所述固定杆与外壳内部下端固定连接,所述滑槽嵌入于固定杆上端,所述连接杆与短杆顶部活动连接,所述短杆与电机输出端转动连接,所述推杆与连接杆右端活动连接,并且推杆与滑槽内侧面滑动连接,所述推杆与滑动板右端相抵接,所述外壳与提纯箱右上端固定连接。

优选的,所述落料孔呈细密孔状,并且落料孔上的通孔大小设置为3厘米。

优选的,所述弹簧长度设置为8厘米,并且弹簧能够提供的力为8N。

优选的,所述壳体呈长方体状,并且壳体内侧面粘接有一层耐腐蚀薄膜。

优选的,所述短杆下端与电机输出端处于同一水平方向,并且电机带动短杆转动角度为360°。

优选的,所述滑槽内侧面呈光滑平面,并且推杆在滑槽内侧面滑动距离范围为3-8厘米。

优选的,所述滑动板为铝合金材质。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于内蒙古豪安能源科技有限公司,未经内蒙古豪安能源科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202021961805.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top