[实用新型]一种光学真空镀膜机用深冷屏蔽罩有效

专利信息
申请号: 202021994245.8 申请日: 2020-09-14
公开(公告)号: CN213232475U 公开(公告)日: 2021-05-18
发明(设计)人: 齐国防 申请(专利权)人: 东光县益丰机械有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34
代理公司: 沧州市国瑞专利代理事务所(普通合伙) 13138 代理人: 赵东阳
地址: 061600 河*** 国省代码: 河北;13
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摘要:
搜索关键词: 一种 光学 真空镀膜 机用深冷 屏蔽
【说明书】:

实用新型涉及镀膜机附属装置的技术领域,特别是涉及一种光学真空镀膜机用深冷屏蔽罩;其可进行靶材与屏蔽罩之间间距全面调节;包括环形座、内螺纹管、外螺纹管、四组内罩体板、扩径环和四组外罩体板,四组内罩体板均布于环形座的顶端,四组内罩体板的底端均与环形座的顶端固定连接,内螺纹管的顶端与环形座的底端固定连接,四组内罩体板的底部合围成锥形体,四组内罩体板的上部合围成圆柱体,扩径环的底端与外螺纹管的顶端固定连接,外螺纹管的底端自内螺纹管的底端螺装穿过外螺纹管自外螺纹管的底端穿出,四组外罩体板分别固定设置于四组内罩体板的外壁上,四组外罩体板位于四组内罩体板之间的间距处。

技术领域

本实用新型涉及镀膜机附属装置的技术领域,特别是涉及一种光学真空镀膜机用深冷屏蔽罩。

背景技术

众所周知,蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜,对于溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且最终沉积在基片表面,经历成膜过程,最终形成薄膜;公开(公告)号CN209307481U公开了一种分体式靶材屏蔽罩,包括第一本体和第二本体,所述第一本体设有承口部,所述第二本体设有插接部,第一本体和第二本体通过承口部和插接部进行承插连接并形成可罩扣在靶材上的罩体。其通过在屏蔽罩第一本体上设有承口,第二本体上设有凸缘,第一本体与第二本体通过承口与凸缘进行承插连接,并且通过改变凸缘插入承口的深度来实现调节屏蔽罩内腔的大小,以调节靶材与屏蔽罩之间的距离,避免靶材在转动的过程中与屏蔽罩接触的同时又能满足溅射镀膜的高纯度要求;使用中发现,其通过改变凸缘插入承口的深度来实现调节屏蔽罩内腔的大小,以调节靶材与屏蔽罩之间的距离,其仅能调节局部间距,靶材与屏蔽罩之间的部分距离未发生变化,调节范围有限,有一定的使用局限性。

实用新型内容

(一)解决的技术问题

针对现有技术的不足,本实用新型提供一种可进行靶材与屏蔽罩之间间距全面调节的光学真空镀膜机用深冷屏蔽罩。

(二)技术方案

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:包括环形座、内螺纹管、外螺纹管、四组内罩体板、扩径环和四组外罩体板,所述四组内罩体板均布于所述环形座的顶端,所述四组内罩体板的底端均与所述环形座的顶端固定连接,所述内螺纹管的顶端与所述环形座的底端固定连接,所述四组内罩体板的底部合围成锥形体,所述四组内罩体板的上部合围成圆柱体,所述扩径环的底端与所述外螺纹管的顶端固定连接,所述外螺纹管的底端自内螺纹管的底端螺装穿过外螺纹管自外螺纹管的底端穿出,所述扩径环与所述四组内罩体板合围成的锥形体内壁紧密接触,所述四组外罩体板分别固定设置于所述四组内罩体板的外壁上,所述四组外罩体板位于四组内罩体板之间的间距处。

优选的,所述内螺纹管底部和外螺纹管的底部均设置有紧固部。

优选的,所述扩径环的外径与所述四组内罩体板自然合围时形成的圆柱体内径等距。

优选的,所述扩径环的底端外壁周向均为圆角。

优选的,所述四组外罩体板和四组内罩体板通过铆钉铆接。

优选的,所述四组内罩体板和四组外罩体板内壁均设置有镀银层。

(三)有益效果

与现有技术相比,本实用新型提供了一种光学真空镀膜机用深冷屏蔽罩,具备以下有益效果:该光学真空镀膜机用深冷屏蔽罩,通过转动外螺纹管,使外螺纹管向内螺纹管内旋紧,从而使扩径环相对于四组内罩体板合围的锥形体向下移动,因锥形体的底部直径越来越小,扩径环将四组内罩体板进行外扩,四组内罩体板之间的间距增大,四组内罩体板合围的空间扩大,而四组外罩体板始终将四组内罩体板之间的间距处进行包覆,四组内罩体板和四组外罩体板合围形成屏蔽区域,可对靶材与四组内罩体板和四组外罩体板合围成的屏蔽罩内壁之间间距进行全面调节,操作方便快捷。

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