[实用新型]一种镀膜稳定的真空镀膜机有效
申请号: | 202022001053.9 | 申请日: | 2020-09-14 |
公开(公告)号: | CN213895985U | 公开(公告)日: | 2021-08-06 |
发明(设计)人: | 吉雄 | 申请(专利权)人: | 辽宁诚德新材料有限公司 |
主分类号: | C23C14/50 | 分类号: | C23C14/50;C23C14/54;C23C14/34 |
代理公司: | 沈阳新科知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21117 | 代理人: | 史卫民 |
地址: | 110326 辽宁省沈*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 镀膜 稳定 真空镀膜 | ||
本实用新型公开了一种镀膜稳定的真空镀膜机,包括控制柜,所述控制柜的右端固定设置有凹槽,所述凹槽的右端固定安装有风机,所述控制柜的前端固定设置有散热孔,所述控制柜的上端固定安装有顶板,所述控制柜的前端位于散热孔的下侧固定安装有真空气压计,所述真空气压计的左侧位于控制柜的前端固定安装有控制按钮,所述控制柜的左端固定安装有电机室,所述电机室与控制柜的下端固定安装有万向轮,所述电机室的上端固定安装有镀膜室,所述镀膜室的前端固定安装有启闭盖,所述镀膜室的上端固定安装有涡轮分子泵。该镀膜稳定的真空镀膜机,能够保证镀膜时部件状态的平稳性和工作环境的稳定性,镀膜质量高,使用寿命长,自动化程度高,便捷性好。
技术领域
本实用新型涉及真空镀膜机技术领域,具体为一种镀膜稳定的真空镀膜机。
背景技术
真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种,主要思路是分成蒸发和溅射两种。
然而目前常用的真空镀膜机,镀膜时不够稳定,工作质量不够高,便捷性较差,使用寿命低,自动化程度不高,不能满足使用需求。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种镀膜稳定的真空镀膜机,以解决上述背景技术中提出目前常用的真空镀膜机,镀膜时不够稳定,工作质量不够高,便捷性较差,使用寿命低,自动化程度不高,不能满足使用需求的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种镀膜稳定的真空镀膜机,包括控制柜,所述控制柜的右端固定设置有凹槽,所述凹槽的右端固定安装有风机,所述控制柜的前端固定设置有散热孔,所述控制柜的上端固定安装有顶板,所述控制柜的前端位于散热孔的下侧固定安装有真空气压计,所述真空气压计的左侧位于控制柜的前端固定安装有控制按钮,所述控制柜的左端固定安装有电机室,所述电机室与控制柜的下端固定安装有万向轮,所述电机室的上端固定安装有镀膜室,所述镀膜室的前端固定安装有启闭盖,所述镀膜室的上端固定安装有涡轮分子泵。
优选的,所述涡轮分子泵的下端固定安装有连通管,所述连通管位于镀膜室的内部,所述连通管的下端固定安装有气压阀,所述电机室的内部固定安装有旋转电机,所述旋转电机传动端的外端固定安装有联轴器,所述旋转电机的传动端通过联轴器固定连接有旋转轴。
优选的,所述旋转轴的外端固定安装有固定轴承,所述旋转轴的上端固定安装有旋转盘,所述固定轴承位于旋转盘的下端,所述旋转盘的上端固定安装有基片盘,所述基片盘的外侧位于旋转盘的上端固定安装有定位杆。
优选的,所述旋转盘的外侧位于镀膜室的内部固定安装有钟罩,所述钟罩位于定位杆的外端,所述钟罩的下端固定安装有电动推杆。
优选的,所述电动推杆位于旋转盘的上端并延伸至旋转盘的下端,所述电动推杆延伸至电机室的内部,所述电动推杆位于定位杆的外侧,所述钟罩的内部固定安装有激光溅射器,所述激光溅射器的下端固定安装有靶材腔,所述靶材腔位于基片盘的上侧,所述基片盘的上端固定设置有基片槽。
优选的,所述电动推杆的外端固定安装有限位环,所述限位环分别位于旋转盘的上侧和下侧,所述钟罩的内部固定安装有气压传感器,所述气压传感器的下端固定安装有控制器,所述控制器位于激光溅射器的左侧,所述控制器与气压阀电性连接。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
1、该镀膜稳定的真空镀膜机,通过安装固定轴承和定位杆,可以保证旋转盘工作平稳、固定,从而大大提高了基片盘工作的稳定性,通过安装钟罩,可以保证工作环境有尽可能高的密封且真空,大大提高了装置的工作质量;
2、该镀膜稳定的真空镀膜机,通过安装电动推杆,当需要添加要镀膜的基片时,可以通过电动推杆上移钟罩,再通过启闭盖放置基片至基片槽内,大大提高了装置的便捷性;
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