[实用新型]湿化学清洗设备的风刀系统和湿化学清洗设备有效
| 申请号： | 202022004987.8 | 申请日： | 2020-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN213401102U | 公开（公告）日： | 2021-06-08 |
| 发明（设计）人： | 王贵梅;王少丽;王盼 | 申请（专利权）人： | 晶澳太阳能有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L31/18;B08B5/02;B08B3/08;F26B21/00 |
| 代理公司： | 北京市万慧达律师事务所 11111 | 代理人： | 赵越 |
| 地址： | 055550 *** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 化学 清洗 设备 系统 | ||
1.一种湿化学清洗设备的风刀系统，其特征在于，包括：主管路、分管路和至少一个风刀组；所述分管路的一端与所述主管路连接，所述分管路上至少连接一个所述风刀组，所述主管路和所述分管路用于向所述风刀组输送压缩空气；
所述风刀组包括风刀和对接管道；所述风刀上设置有沿轴向排列的多个气孔，压缩空气从所述气孔吹出；所述对接管道的一端与所述风刀连接，另一端与所述分管路连接。
2.根据权利要求1所述的风刀系统，其特征在于：一个所述风刀组包括两个不连通的风刀；所述对接管道包括连通管，连通管的两端分别与两个风刀连接。
3.根据权利要求2所述的风刀系统，其特征在于：一个所述风刀组的两个风刀设置在一条直线上，且两个风刀固定连接。
4.根据权利要求2所述的风刀系统，其特征在于：所述对接管道还包括槽内管、槽外管、软管；所述槽内管的一端与所述连通管连接；
所述槽内管的另一端、所述槽外管、所述软管的一端依次连接；所述软管的另一端连接到所述分管路。
5.根据权利要求4所述的风刀系统，其特征在于：所述槽外管上设置有阀门，用于调节风刀组的风压。
6.根据权利要求4所述的风刀系统，其特征在于：所述槽外管和所述软管之间通过过滤器连接，所述过滤器用于过滤压缩空气中的杂质。
7.根据权利要求1-6任一项所述的风刀系统，其特征在于：所述气孔的直径为0.2毫米，孔距为5毫米；一个所述风刀上设置138个气孔。
8.根据权利要求1-6任一项所述的风刀系统，其特征在于：所述主管路竖直设置，所述分管路水平设置；
所述风刀组水平设置，且与所述分管路垂直。
9.根据权利要求8所述的风刀系统，其特征在于：所述风刀组的数量为五组，所述分管路的数量为两条；
一条分管路上连接两个风刀组，另一条分管路上连接三个风刀组。
10.一种湿化学清洗设备，其特征在于，包括：如权利要求1-9任一项所述的风刀系统，以及多个槽体；
所述风刀系统包括多个风刀组，每个所述槽体中对应设置一个所述风刀组；
所述槽体中设置有用于运送电池片的上滚轴和下滚轴；所述风刀设置在所述上滚轴的一侧，用于对所述电池片进行吹扫。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
