[实用新型]一种合瓦、基于合瓦的屋面结构有效

专利信息
申请号: 202022011671.1 申请日: 2020-09-15
公开(公告)号: CN213682867U 公开(公告)日: 2021-07-13
发明(设计)人: 田青山 申请(专利权)人: 西安画风建筑工程有限公司
主分类号: E04D1/02 分类号: E04D1/02;E04D1/06
代理公司: 西安毅联专利代理有限公司 61225 代理人: 师玮
地址: 710000 陕西省西安市高新区*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 屋面 结构
【权利要求书】:

1.一种合瓦,其特征在于,包括:一体成型的凸面板瓦和凹面底瓦;

所述凸面板瓦沿其长度方向的截面为第一弧形,所述凹面底瓦沿其长度方向的截面为第二弧形;

所述第一弧形的跨度大于所述第二弧形的跨度,所述第一弧形的拱起方向与第二弧形的拱起方向相反;

所述第一弧形的两端向其弯曲方向延伸出第一斜线和第二斜线,所述第一斜线延伸至第二弧形的一端、并与所述第二弧形连接,所述第二斜线的斜率及长度均与所述第一斜线对称;

所述第二弧形对应凹面底瓦的凹面,该凹面作为排水面。

2.根据权利要求1所述的合瓦,其特征在于,所述第一斜线和所述第二斜线沿凸面板瓦的长度方向拉伸、形成凸面板瓦的第一斜面和第二斜面;

所述第一斜面和所述第二斜面沿第一弧形宽度方向的中部镜像;

所述第一斜面和第二斜面均向第一弧形的弧心倾斜;

所述第一弧形沿凸面板瓦的长度方向拉伸、形成凸面板瓦的凸面,所述第二弧形沿凹面底瓦的长度方向拉伸、形成凹面底瓦的凹面;

所述第一斜面与凹面顺接,实现凸面板瓦和凹面底瓦的顺接。

3.根据权利要求1所述的合瓦,其特征在于,所述第一弧形位于所述第二弧形的上方,所述第二弧形的顺接端伸至第一弧形的顺接端下方;

所述第一弧形的顺接端与所述第二弧形的顺接端通过第一斜面连接,使得所述凸面板瓦和所述凹面底瓦在宽度方向顺接。

4.根据权利要求3所述的合瓦,其特征在于,所述第一弧形的顺接端指第一弧形中靠近所述第二弧形的端部;

所述第二弧形的顺接端指第二弧形中靠近所述第一弧形的端部。

5.根据权利要求1-4任一项所述的合瓦,其特征在于,所述凸面板瓦的表面加工有多个第一纹路,所述凹面底瓦的表面加工有多个第二纹路,多个合瓦依次拼接,所有合瓦上所述第一纹路和所述第二纹路形成瓦垄。

6.根据权利要求5所述的合瓦,其特征在于,位于本合瓦旁侧的另一合瓦与本合瓦拼接时:

本合瓦的凸面板瓦与另一合瓦的凹面板瓦拼接;

或者,

本合瓦的凹面板瓦与另一合瓦的凸面板瓦拼接。

7.根据权利要求1所述的合瓦,其特征在于,所述第一弧形的跨度大于所述第二弧形跨度的两倍。

8.根据权利要求1所述的合瓦,其特征在于,还包括弯钩条和咬合条;

所述弯钩条设置在凸面板瓦的侧部,所述咬合条设置在凹面底瓦的侧部;

所述咬合条上设有供弯钩条咬合的咬合结构,另一个合瓦的弯钩条跨过本合瓦的咬合条后卡入本合瓦的咬合结构,以实现本合瓦与另一个合瓦的连接。

9.一种基于合瓦的屋面结构,其特征在于,包括:若干合瓦,若干合瓦分别沿屋面坡度方向设置;并且若干合瓦沿屋面的宽度方向依次排列;所述合瓦为权利要求1-8任一项所述的合瓦;

相邻合瓦相互扣合。

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