[实用新型]一种合瓦、基于合瓦的屋面结构有效

专利信息
申请号: 202022011671.1 申请日: 2020-09-15
公开(公告)号: CN213682867U 公开(公告)日: 2021-07-13
发明(设计)人: 田青山 申请(专利权)人: 西安画风建筑工程有限公司
主分类号: E04D1/02 分类号: E04D1/02;E04D1/06
代理公司: 西安毅联专利代理有限公司 61225 代理人: 师玮
地址: 710000 陕西省西安市高新区*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 屋面 结构
【说明书】:

本实用新型提供了一种合瓦、基于合瓦的屋面结构,属于建筑材料领域,能够避免现有瓦片屋面铺设费时和防水效果不好的缺陷。合瓦包括:一体成型的凸面板瓦和凹面底瓦;凸面板瓦沿其长度方向的截面为第一弧形,凹面底瓦沿其长度方向的截面为第二弧形;第一弧形的跨度大于第二弧形的跨度,第一弧形的拱起方向与第二弧形的拱起方向相反;第一弧形的两端向其弯曲方向延伸出第一斜线和第二斜线,第一斜线延伸至第二弧形的一端、并与第二弧形连接,第二斜线的斜率及长度均与第一斜线对称。本实用新型的屋面结构基于该合瓦。本实用新型的凸面板瓦和凹面底瓦一体成型,利用凹面底瓦的凹面作为排水面,排水面的间距可以在生产合瓦时调整尺寸。

技术领域

本实用新型涉及建筑材料领域,尤其涉及一种合瓦、基于合瓦的屋面结构。

背景技术

合瓦屋面古建筑屋面做法,亦称“阴阳瓦”或“蝴蝶瓦”。合瓦屋面的主要特征是凸面板瓦与凹面底瓦均为凸面板瓦,做为凹面底瓦的凸面板瓦和盖瓦的凸面板瓦,按顺序排列,构成合瓦瓦垄。

授权公告号为207582812U的中国实用新型专利,公开了一种复合瓦,包括瓦片一和瓦片二,所述瓦片一和瓦片二均为波浪形,所述瓦片一位于瓦片二的上方,所述瓦片一和瓦片二的上端设置有若干瓦波,所述瓦波与瓦波之间设置有瓦沟,所述瓦片二的后端设置有凹槽,所述凹槽呈三角状,所述凹槽的内壁设置有橡胶层,所述瓦片一的前端设置有与凹槽相匹配的凸起,所述凸起的表面设置有凸点,所述凸起上设置有螺纹孔,所述凹槽的后端设置有与螺纹孔对应的通孔一,所述瓦片一和瓦片二的两侧下端设置有铁板,所述铁板上设置有通孔二。

该专利虽稳定安装在房屋的屋顶,不被风吹跑,但波浪形的瓦片一和瓦片二以及瓦波使得复合瓦的表面纹理较多,不利于复合瓦的制造。

因此有必要研究出一种合瓦、基于合瓦的屋面结构,以解决现有合瓦整体性不好的问题。

实用新型内容

本实用新型提供了一种合瓦、基于该合瓦的屋面,凸面板瓦和凹面底瓦一体成型,利用凹面底瓦的凹面作为排水面排水,排水面的间距可以根据实际情况在生产合瓦时调整尺寸。

实现本实用新型目的的技术方案如下:

一种合瓦,包括:一体成型的凸面板瓦和凹面底瓦;

所述凸面板瓦沿其长度方向的截面为第一弧形,所述凹面底瓦沿其长度方向的截面为第二弧形;

所述第一弧形的跨度大于所述第二弧形的跨度,所述第一弧形的拱起方向与第二弧形的拱起方向相反;

所述第一弧形的两端向其弯曲方向延伸出第一斜线和第二斜线,所述第一斜线延伸至第二弧形的一端、并与所述第二弧形连接,所述第二斜线的斜率及长度均与所述第一斜线对称;

所述第二弧形对应凹面底瓦的凹面,该凹面作为排水面。

作为本实用新型的进一步改进,所述第一斜线和所述第二斜线沿凸面板瓦的长度方向拉伸、形成凸面板瓦的第一斜面和第二斜面;

所述第一斜面和所述第二斜面沿第一弧形宽度方向的中部镜像;

所述第一斜面和第二斜面均向第一弧形的弧心倾斜;

所述第一弧形沿凸面板瓦的长度方向拉伸、形成凸面板瓦的凸面,所述第二弧形沿凹面底瓦的长度方向拉伸、形成凹面底瓦的凹面;

所述第一斜面与凹面顺接,实现凸面板瓦和凹面底瓦的顺接。

作为本实用新型的进一步改进,所述第一弧形位于所述第二弧形的上方,所述第二弧形的顺接端伸至第一弧形的顺接端下方;

所述第一弧形的顺接端与所述第二弧形的顺接端通过第一斜面连接,使得所述凸面板瓦和所述凹面底瓦在宽度方向顺接。

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