[实用新型]一种真空蒸发镀膜装置

权利要求书

1.一种真空蒸发镀膜装置，包括壳体(1)和蒸发室(2)，其特征在于：所述壳体(1)的内底壁与蒸发室(2)固定连接，所述蒸发室(2)内部设置有加热设备(3)，所述蒸发室(2)的顶端开设有投射孔(4)，所述壳体(1)的内侧壁固定连接有固定板(5)，所述固定板(5)的一侧固定连接有齿条(6)，所述齿条(6)的表面啮合有齿轮(7)，所述齿轮(7)的内壁固定连接有电机(8)，所述电机(8)的两端转动连接有活动块(9)，所述活动块(9)远离固定板(5)的一端固定连接有基板(10)，壳体(1)的上方设置有真空泵(11)，壳体(1)的一侧固定连接有冷气管(12)，所述壳体(1)的另一侧固定连接有单向阀(13)，所述单向阀(13)的一端设置有温度检测仪(14)。

2.根据权利要求1所述的一种真空蒸发镀膜装置，其特征在于：所述固定板(5)的两侧两端均开设有限位槽(15)，所述限位槽(15)的内壁活动连接有限位块(16)，所述限位块(16)与活动块(9)固定连接。

3.根据权利要求1所述的一种真空蒸发镀膜装置，其特征在于：所述壳体(1)的顶端活动连接有密封盖(17)，所述密封盖(17)通过合页(18)与壳体(1)活动连接，所述密封盖(17)顶端的中部与真空泵(11)固定连接。

4.根据权利要求3所述的一种真空蒸发镀膜装置，其特征在于：所述密封盖(17)的一端固定连接有子卡块(19)，所述子卡块(19)的底端卡接有母卡块(20)，所述母卡块(20)与壳体(1)固定连接。

5.根据权利要求3所述的一种真空蒸发镀膜装置，其特征在于：所述密封盖(17)顶端的一侧固定连接有连接板，所述连接板的数量为两个，两个所述连接板之间固定连接有拉手(21)。

6.根据权利要求1所述的一种真空蒸发镀膜装置，其特征在于：所述壳体(1)的底端四角均固定连接有支撑腿(22)，所述支撑腿(22)的底端设置有防滑纹。