[实用新型]一种掩膜版及彩膜基板

说明书

本实用新型公开了一种掩膜版及彩膜基板，其中掩膜版包括第一透明衬底基板，所述第一透明衬底基板的一侧面设有透过率为5‑15%的第一光阻层，用于彩膜基板的遮光层，所述第一光阻层上开设有若干个第一通孔形成黑矩阵层，所述第一通孔用于彩膜基板中的彩色色阻的制作，所述黑矩阵层上还开设有第一全透孔；所述黑矩阵层的外表面还设有透过率为15%‑40%的第二光阻层，所述第二光阻层和黑矩阵层上还开设有第二全透孔，所述第二全透孔用于彩膜基板的主柱状隔垫物的制作，所述第一全透孔由于第二光阻层的阻挡作用用于彩膜基板的辅柱状隔垫物的制作，可以同时制作彩膜基板上的主柱状隔垫物、辅柱状隔垫物和遮光层，有效降低了掩膜版的生产成本和减少了一道产品制程成本。

技术领域

本实用新型涉及液晶显示技术领域，更具体地涉及一种掩膜版及彩膜基板。

背景技术

在薄膜晶体管液晶显示器 (TFT-LCD)制程中，柱状隔垫物的制作 (Post Spacer；PS)是彩色色阻层 (color filter)的一个关键工序。曝光是柱状隔垫物制作工序的重要制程，掩膜版(Mask)是曝光的一个基本工具。由于小尺寸玻璃基板 (Panel)上一般同时有主柱状隔垫物 (Main PS)和辅柱状隔垫物 (Sub PS)两种高度不同的柱状隔垫物，如果使用两道掩膜版曝光分别制作主柱状隔垫物和辅柱状隔垫物，则会导致柱状隔垫物工序的产能减少一半，同时也会造成光刻胶和显影液等物料的加倍损耗。因此，使用一道掩膜版曝光制作主柱状隔垫物和辅柱状隔垫物是非常必要的，这种掩膜版通常称为半色调掩膜版(Halftone Mask)。

如图1所示，现有技术中的用于制作主柱状隔垫物和辅柱状隔垫物的半色调掩膜版的结构通常包括玻璃基板1，设置在玻璃基板1一侧面的全遮光层2，在全遮光层2内开设若干个全透明孔3以用于曝光形成主柱状隔垫物和在全遮光层2内开设半透明孔4以用于曝光形成辅柱状隔垫物。如图2所示，用于制作彩色色阻层的掩膜版的结构通常包括玻璃基板10，在玻璃基板10的一侧面镀全遮光层20，再在全遮光层20上蚀刻成若干个孔30以用于进行彩膜基板上的R、G、B图案的制作。上述制作柱状隔垫物和彩色色阻层的方法相当于采用了两道掩膜版分别进行制作，增加了掩膜版的成本和产品制程中的成本。

实用新型内容

为了解决所述现有技术的不足，本实用新型提供了一种掩膜版及彩膜基板，可以同时制作彩膜基板上的主柱状隔垫物、辅柱状隔垫物和遮光层，有效降低了掩膜版的生产成本和减少了一道产品制程成本。

本实用新型所要达到的技术效果通过以下方案实现：一种掩膜版，包括第一透明衬底基板，所述第一透明衬底基板的一侧面设有透过率为5-15%的第一光阻层，用于彩膜基板的遮光层，所述第一光阻层上开设有若干个第一通孔形成黑矩阵层，所述第一通孔用于彩膜基板中的彩色色阻的制作，所述黑矩阵层上还开设有第一全透孔；所述黑矩阵层的外表面还设有透过率为15%-40%的第二光阻层，所述第二光阻层和黑矩阵层上还开设有第二全透孔，所述第二全透孔用于彩膜基板的主柱状隔垫物的制作，所述第一全透孔由于第二光阻层的阻挡作用用于彩膜基板的辅柱状隔垫物的制作。

优选地，所述第一全透孔的透光率由掩膜版的四周边界向中心处递减。

优选地，所述主柱状隔垫物的顶部尺寸和底部尺寸的差值小于或等于预设阈值，所述辅柱状隔垫物的顶部尺寸和底部尺寸的差值小于或等于预设阈值。

优选地，所述第一光阻层的材质为铬膜或者铬的化合物，所述第二光阻层的材质为铬膜或者铬的化合物。

优选地，所述第一透明衬底基板的材质为石英玻璃基板。

优选地，所述掩膜版的厚度为5-20mm。

一种彩膜基板，包括第二透明衬底基板，所述第二透明衬底基板的一侧面设有上述所述的掩膜版一次形成的遮光层、主柱状隔垫物层和辅柱状隔垫物层，所述遮光层上还开设有第二通孔，用于制作红色色阻R、绿色色阻G、以及蓝色色阻B。

优选地，所述彩膜基板的外侧表面还设有平坦层。