[实用新型]平板式PECVD设备的局部送气可调的辉光放电装置有效
申请号: | 202022066274.4 | 申请日: | 2020-09-18 |
公开(公告)号: | CN213708477U | 公开(公告)日: | 2021-07-16 |
发明(设计)人: | 陈特超;曾武杨;唐电;杨彬;杨志权 | 申请(专利权)人: | 湖南红太阳光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/50 |
代理公司: | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 | 代理人: | 戴玲 |
地址: | 410205 湖南省*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 平板 pecvd 设备 局部 送气 可调 辉光 放电 装置 | ||
1.一种平板式PECVD设备的局部送气可调的辉光放电装置,其特征在于:包括上电极板(1)、下电极板(2)和送气机构(3),所述上电极板(1)和下电极板(2)间隔设置在PECVD设备的反应室(4)内,所述反应室(4)由腔盖(5)和腔体(6)构成,所述上电极板(1)安装在腔盖(5)上,所述下电极板(2)设于腔体(6)的底板上,所述上电极板(1)包括底盒(11)和多个主管路(12),所述底盒(11)的下端面为喷淋板(13),所述多个主管路(12)呈矩阵式分布在底盒(11)的上端面,且各主管路(12)向上延伸至腔盖(5)外,所述送气机构(3)包括多个送气组件(31),所述送气组件(31)与主管路(12)一一对应,所述送气组件(31)包括送气支管(311)以及设于送气支管(311)上的流量计(312)和控制阀(313),所述送气支管(311)与对应的主管路(12)连接。
2.根据权利要求1所述的平板式PECVD设备的局部送气可调的辉光放电装置,其特征在于:所述底盒(11)内设有匀流板(14),所述匀流板(14)上设有多个均布的匀流孔(141)。
3.根据权利要求2所述的平板式PECVD设备的局部送气可调的辉光放电装置,其特征在于:所述匀流板(14)上下可调节的安装在底盒(11)内。
4.根据权利要求2所述的平板式PECVD设备的局部送气可调的辉光放电装置,其特征在于:所述匀流孔(141)的轴线与主管路(12)的轴线相互错开。
5.根据权利要求1至4任意一项所述的平板式PECVD设备的局部送气可调的辉光放电装置,其特征在于:所述送气支管(311)为具有阻断主管路(12)与送气机构(3)之间电接触的绝缘管路。
6.根据权利要求1至4任意一项所述的平板式PECVD设备的局部送气可调的辉光放电装置,其特征在于:所述腔盖(5)两端设有腔盖凸缘(51),所述底盒(11)设于两个腔盖凸缘(51)之间,所述喷淋板(13)的底面与腔盖凸缘(51)的底面平齐。
7.根据权利要求1至4任意一项所述的平板式PECVD设备的局部送气可调的辉光放电装置,其特征在于:所述底盒(11)的上端面布有多个电极接线柱(15),所述多个电极接线柱(15)均与匹配电路(61)连接,所述匹配电路(61)与电源(62)连接。
8.根据权利要求1至4任意一项所述的平板式PECVD设备的局部送气可调的辉光放电装置,其特征在于:所述底盒(11)通过支撑柱(71)安装在腔盖(5)上,所述支撑柱(71)上端穿设在腔盖(5)上,下端与底盒(11)固定连接,所述支撑柱(71)通过绝缘套(72)与腔盖(5)绝缘。
9.根据权利要求1至4任意一项所述的平板式PECVD设备的局部送气可调的辉光放电装置,其特征在于:所述底盒(11)与腔盖(5)之间设有真空绝缘板(73),所述真空绝缘板(73)套在支撑柱(71)上;所述真空绝缘板(73)与腔盖(5)和底盒(11)之间设有真空密封圈(74)。
10.根据权利要求1至4任意一项所述的平板式PECVD设备的局部送气可调的辉光放电装置,其特征在于:所述下电极板(2)为负载板,所述负载板通过多个铜带与腔体(6)底板接通。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的