[实用新型]平板式PECVD设备的局部送气可调的辉光放电装置有效
申请号: | 202022066274.4 | 申请日: | 2020-09-18 |
公开(公告)号: | CN213708477U | 公开(公告)日: | 2021-07-16 |
发明(设计)人: | 陈特超;曾武杨;唐电;杨彬;杨志权 | 申请(专利权)人: | 湖南红太阳光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/50 |
代理公司: | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 | 代理人: | 戴玲 |
地址: | 410205 湖南省*** | 国省代码: | 湖南;43 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 平板 pecvd 设备 局部 送气 可调 辉光 放电 装置 | ||
本实用新型公开了一种平板式PECVD设备的局部送气可调的辉光放电装置,包括上电极板、下电极板和送气机构,反应室由腔盖和腔体构成,上电极板安装在腔盖上,下电极板设于腔体的底板上,上电极板包括底盒和多个主管路,底盒的下端面为喷淋板,多个主管路呈矩阵式分布在底盒的上端面,送机机构包括多个送气组件,送气组件与主管路一一对应,送气组件包括送气支管以及设于送气支管上的流量计和控制阀,送气支管与对应的主管路连接。本实用新型将送气机构分成多组送气支路,通过流量计和控制阀调节局部区域的进气速率、气流大小,均衡上电极板的气体量,实现反应室的镀膜速率保持一致,能够大幅度提高镀膜的均匀性,进而大大提高了电池的转换效率。
技术领域
本实用新型涉及太阳能电池制备领域,尤其涉及一种平板式PECVD设备的局部送气可调的辉光放电装置。
背景技术
隧穿氧化钝化接触(TOPCon)由于具有显著减低界面的复合、更高的填充因子和更高的转换效率等特性,发展尤为迅速,已成为了新型钝化技术的研究热点,广泛应用在单晶硅太阳能电池、多晶硅太阳能电池等中。
平板式PECVD由于具有:沉积温度要求较低、沉积速率快且稳定可控、成膜均匀性稳定性良好、针孔较少、不易龟裂等优点,而被广泛应用于制备TOPCon电池的工业生产中。
现有的平板式PECVD,主要由反应腔室、上电极板、下电极板等组成,采用平行平板式结构,在真空条件下上下电极板通过辉光放电形成等离子体,由于需要产能大,耗能小,为了满足大产能的要求,只能采用增大单次装片量的方式,装片量增大,电极板的面积就必须增大,其放电均匀性就不能很好的满足TOPCon电池的要求,导致出现局部等离子体密度较低,辉光均匀性差,电池转换效率低,由于电极板面积大,电源引入点位单一,导致电极板上电场分布不均,影响辉光均匀性,当前的平板式PECVD设备不能很好的兼顾满足这些要求,造成晶硅电池的转换效率低下。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是克服现有技术的不足,提供一种能够大幅度提高镀膜的均匀性,进而大大提高了电池的转换效率的平板式PECVD设备的局部送气可调的辉光放电装置。
为解决上述技术问题,本实用新型采用以下技术方案:
一种平板式PECVD设备的局部送气可调的辉光放电装置,包括上电极板、下电极板和送气机构,所述上电极板和下电极板间隔设置在PECVD设备的反应室内,所述反应室由腔盖和腔体构成,所述上电极板安装在腔盖上,所述下电极板设于腔体的底板上,所述上电极板包括底盒和多个主管路,所述底盒的下端面为喷淋板,所述多个主管路呈矩阵式分布在底盒的上端面,且各主管路向上延伸至腔盖外,所述送气机构包括多个送气组件,所述送气组件与主管路一一对应,所述送气组件包括送气支管以及设于送气支管上的流量计和控制阀,所述送气支管与对应的主管路连接。
作为上述技术方案的进一步改进,所述底盒内设有匀流板,所述匀流板上设有多个均布的匀流孔。
作为上述技术方案的进一步改进,所述匀流板上下可调节的安装在底盒内。
作为上述技术方案的进一步改进,所述匀流孔的轴线与主管路的轴线相互错开。
作为上述技术方案的进一步改进,所述送气支管为具有阻断主管路与送气机构之间电接触的绝缘管路。
作为上述技术方案的进一步改进,所述腔盖两端设有腔盖凸缘,所述底盒设于两个腔盖凸缘之间,所述喷淋板的底面与腔盖凸缘的底面平齐。
作为上述技术方案的进一步改进,所述底盒的上端面布有多个电极接线柱,所述多个电极接线柱均与匹配电路连接,所述匹配电路与电源连接。
作为上述技术方案的进一步改进,所述底盒通过支撑柱安装在腔盖上,所述支撑柱上端穿设在腔盖上,下端与底盒固定连接,所述支撑柱通过绝缘套与腔盖绝缘。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于湖南红太阳光电科技有限公司,未经湖南红太阳光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202022066274.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种混凝土生产用降尘管道
- 下一篇:一种基因检测用取样装置
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的