[实用新型]基板的支撑装置及PECVD设备

权利要求书

1.一种基板的支撑装置，其特征在于，包括基座和与所述基座上配合设置的可升降的支撑机构，所述基座设有多个通孔，所述通孔的内侧壁嵌套有第一磁性件；

所述支撑机构包括多个支撑件，所述支撑件上具有与所述第一磁性件的磁性相同的第二磁性件，所述支撑件与所述通孔一一对应设置，以使所述支撑件的顶端可经所述通孔伸出至所述基座表面，通孔并保持所述支撑件的外侧壁与所述通孔的内侧壁之间具有间隙。

2.根据权利要求1所述的基板的支撑装置，其特征在于，所述第一磁性件套接在所述通孔内侧壁；或者，至少四个所述第一磁性件均匀周向设置在所述通孔的内侧壁。

3.根据权利要求2所述的基板的支撑装置，其特征在于，所述通孔为台阶孔，所述通孔包括同轴设置的大径孔段和小径孔段，所述大径孔段的内径大于所述小径孔段的内径，所述第一磁性件套接在所述大径孔段内，且所述第一磁性件的内侧壁与所述小径孔段的内侧壁平齐。

4.根据权利要求3所述的基板的支撑装置，其特征在于，所述大径孔段的轴向长度大于或等于所述通孔的轴向总长度的二分之一，且小于或等于所述通孔的轴向总长度的三分之二。

5.根据权利要求1-4任一项所述的基板的支撑装置，其特征在于，所述支撑件为顶针，所述支撑件包括依次同轴连接的顶针尖、顶针颈和顶针座，所述顶针尖呈锥型，所述顶针尖的大径端的外径与所述顶针颈的外径相等，所述顶针座的外径大于所述顶针颈的外径，所述第二磁性件位于所述顶针颈上；

所述顶针尖和所述顶针颈可经所述通孔伸出至所述基座的上方，所述顶针尖用于支撑所述基板。

6.根据权利要求5所述的基板的支撑装置，其特征在于，所述第二磁性件为磁套，所述第二磁性件套接在所述顶针颈上；或者，所述第二磁性件的数量至少为四个，且各所述第二磁性件均匀设置在所述顶针颈的外侧壁。

7.根据权利要求1-4任一项所述的基板的支撑装置，其特征在于，所述支撑机构还包括多个衬套组件，各所述衬套组件均与所述基座连接，且所述衬套组件均位于所述基座的下方，所述衬套组件与所述通孔一一对应设置，所述衬套组件上具有引导孔，相对的所述引导孔与所述通孔连通，所述支撑件依次经所述引导孔和所述通孔伸出至所述基座的上方。

8.根据权利要求7所述的基板的支撑装置，其特征在于，所述衬套组件包括第一衬套和与所述第一衬套同轴连接的第二衬套，所述第一衬套位于所述第二衬套与所述基座之间，所述第一衬套具有第一引导孔，所述第二衬套具有与所述第一引导孔同轴设置的第二引导孔，所述第一引导孔与所述第二引导孔连通，所述第一引导孔的内径大于所述第二引导孔的内径，所述第二引导孔的内径大于或等于所述通孔的内径。

9.根据权利要求7所述的基板的支撑装置，其特征在于，所述支撑机构还包括升降组件，所述升降组件包括支撑台和驱动件，所述升降组件位于所述衬套组件的下方，各所述支撑件间隔设置的所述支撑台上，所述驱动件与所述支撑台连接，以通过所述支撑台驱动所述支撑件沿所述通孔的轴线上下移动。

10.一种PECVD设备，其特征在于，包括设备本体和权利要求1至9任一项所述的基板的支撑装置，所述设备本体具有腔体，所述支撑件位于所述腔体内。