[实用新型]一种采用浊度参数控制水下成像设备曝光值的装置

权利要求书

1.一种采用浊度参数控制水下成像设备曝光值的装置，包括主体(15)，其特征在于：所述主体(15)设置有成像舱(1)、光源舱(3)，所述成像舱(1)的上端口设置有浊度计(2)，所述成像舱(1)、光源舱(3)的表面均设置有扰流罩(6)，所述成像舱(1)、光源舱(3)的上方设置有拖曳防护架(5)，所述成像舱(1)、光源舱(3)的上端一侧均固定连接有横梁支架(7)，所述拖曳防护架(5)的下端且相对于成像舱(1)、光源舱(3)设置有横梁(8)，所述横梁(8)与横梁支架(7)固定连接，所述成像舱(1)的内部下端一侧设置有光源控制板(10)，所述成像舱(1)的内部下端另一侧设置有相机(12)，所述光源舱(3)的内部一侧设置有光源(14)，所述主体(15)的上端一侧设置有浊度传感器(16)。

2.根据权利要求1所述的一种采用浊度参数控制水下成像设备曝光值的装置，其特征在于：所述拖曳防护架(5)的一侧固定连接有拖曳钩(4)。

3.根据权利要求1所述的一种采用浊度参数控制水下成像设备曝光值的装置，其特征在于：所述成像舱(1)的内部下端且相对于光源控制板(10)设置有主控板(11)。

4.根据权利要求1所述的一种采用浊度参数控制水下成像设备曝光值的装置，其特征在于：所述成像舱(1)的内部下端另一侧且相对于相机(12)设置有镜头(13)。

5.根据权利要求1所述的一种采用浊度参数控制水下成像设备曝光值的装置，其特征在于：所述成像舱(1)、光源舱(3)的后端均设置有水密接头防护架(9)。