[实用新型]一种采用浊度参数控制水下成像设备曝光值的装置

说明书

本实用新型公开了一种采用浊度参数控制水下成像设备曝光值的装置，包括主体，所述主体设置有成像舱、光源舱，所述成像舱的上端口设置有浊度计，所述成像舱、光源舱的表面均设置有扰流罩，所述成像舱、光源舱的上方设置有拖曳防护架，所述成像舱、光源舱的上端一侧均固定连接有横梁支架，所述拖曳防护架的下端且相对于成像舱、光源舱设置有横梁，所述横梁与横梁支架固定连接，所述成像舱的内部下端一侧设置有光源控制板，所述成像舱的内部下端另一侧设置有相机，所述光源舱的内部一侧设置有光源，所述主体的上端一侧设置有浊度传感器。本实用新型中，可有效进行一个使用。

技术领域

本实用新型涉及水下成像设备领域，尤其涉及一种采用浊度参数控制水下成像设备曝光值的装置。

背景技术

水下成像仪工作原理特殊，采用自带可调发光光源，拍摄部分使用工业相机，相机不具备自动曝光，或者达不到曝光要求，满足不了拍摄照片的成像质量要求。在水中拍摄照片，水体的浊度是对照片质量最大的影响因素，尤其是在近海地区，不同距离和深度的海水浊度变化很大，曝光值不能正确设置，就会造成照片过曝光或者严重曝光不足。目前设备上不具有自动适应曝光功能，需要连接电缆远程观测，根据水下浊度状况实时调整曝光值。在采用拖曳方式作业时，不能连接电缆，就无法实时调整曝光值，造成废片的几率很高。

相比现阶段的传统设备，本实用新型，通过大量不同浊度成像测试结果分析后取得，获得合适成像曝光光强值参数后发指令给光源控制板，调整光强；最终获得适合的图像曝光结果。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种采用浊度参数控制水下成像设备曝光值的装置。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：一种采用浊度参数控制水下成像设备曝光值的装置，包括主体，所述主体设置有成像舱、光源舱，所述成像舱的上端口设置有浊度计，所述成像舱、光源舱的表面均设置有扰流罩，所述成像舱、光源舱的上方设置有拖曳防护架，所述成像舱、光源舱的上端一侧均固定连接有横梁支架，所述拖曳防护架的下端且相对于成像舱、光源舱设置有横梁，所述横梁与横梁支架固定连接，所述成像舱的内部下端一侧设置有光源控制板，所述成像舱的内部下端另一侧设置有相机，所述光源舱的内部一侧设置有光源，所述主体的上端一侧设置有浊度传感器。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述拖曳防护架的一侧固定连接有拖曳钩。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述成像舱的内部下端且相对于光源控制板设置有主控板。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述成像舱的内部下端另一侧且相对于相机设置有镜头。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述成像舱、光源舱的后端均设置有水密接头防护架。

本实用新型具有如下有益效果：

1、本实用新型，通过浊度值采集使用高精度浊度传感器，浊度值计数单位NTU，成像仪软件定期采集浊度值，间隔时间30-300秒/次可调，将采集到的浊度值和数学模型比对，找到相应等光强参数值，光强参数0-550分级可调，浊度值和光强值得数学模型，是通过大量不同浊度成像测试结果分析后取得，获得合适成像曝光光强值参数后发指令给光源控制板，调整光强，最终获得适合的图像曝光结果。

2、本实用新型，通过拖曳钩可进行一个使用，且通过拖曳防护架5来使得整体进行一个移动使用，通过水密接头防护架来进行一个有效防护使用。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种采用浊度参数控制水下成像设备曝光值的装置的结构示意图；

图2为本实用新型提出的一种采用浊度参数控制水下成像设备曝光值的装置的内部示意图；