[实用新型]压差平衡结构

说明书

本实用新型公开了一种压差平衡结构，其用于连接光刻胶干式剥离机台的预真空腔和真空传送模块，包括：第一平衡孔形成在真空传送模块侧壁上；第二平衡孔形成在预真空腔侧壁上；平衡结构密闭连接第一平衡孔和第二平衡孔；流量控制装置形成在平衡结构上，其用于控制平衡结构内的气体流量。本实用新型的压差平衡结构使空传送模块和预真空腔缓慢的实现压差平衡，能避免预真空腔和真空传送模块由于压力差产生气流冲击，真空传送模块和预真空腔中的颗粒不会被扬起，进而提高产品良率。

技术领域

本实用新型涉及集成电路生产制造领域，特别是涉及一种用于连接光刻胶干式剥离机台的预真空腔和真空传送模块的压差平衡结构。

背景技术

光刻胶干式剥离是指晶圆片上的掩模层在图案加工完成后被除去。目的是尽可能快地晶圆片上的遮蔽材料，而不让任何表面材料受损。光刻胶干式剥离机台是先进的光刻胶剥离系统，在表面清洁、表面处理和表面改性方面为集成电路生产制造提供了完整的解决方案。

光刻胶干式剥离机台(例如，Mattson Suprema机台)是采用多模块、基于真空传输的高吞吐量平台。光刻胶干式剥离机台的预真空腔和真空传送模块是共用一个干泵进行抽气，真空传送模块的常态为1000mtorr真空，预真空腔进出晶圆时需要在真空和大气两种状态下转换。在传送过程中，预真空腔通过干泵抽气，在达到到传送设定压力(1000mtorr)后，干泵隔离阀不能瞬间关闭，导致预真空腔的真实压力会小于1000mtorr，约800mtorr～1000mtorr。另外真空传送模块也有一定的压力范围，真实压力约900mtorr～1100mtorr。这种现实情况导致真空传送模块和预真空腔之间存在压力差。当隔门(slit door)开门时，造成压差瞬间平衡，在此过程中可能会对预真空腔中的晶圆产生气流冲击，并将真空传送模块和预真空腔中的颗粒扬起，甚至吹到晶圆表面形成生产缺陷，降低产品的良品率。

实用新型内容

在实用新型内容部分中引入了一系列简化形式的概念,该简化形式的概念均为本领域现有技术简化，这将在具体实施方式部分中进一步详细说明。本实用新型的实用新型内容部分并不意味着要试图限定出所要求保护的技术方案的关键特征和必要技术特征，更不意味着试图确定所要求保护的技术方案的保护范围。

本实用新型要解决的技术问题是提供一种能避免真空传送模块和预真空腔之间由于压力差产生气流冲击的真空传送模块和预真空腔之间存在压力差。

为解决上述技术问题，本实用新型提供一种用于连接光刻胶干式剥离机台的预真空腔和真空传送模块的压差平衡结构，包括：

第一平衡孔，其形成在真空传送模块侧壁上；

第二平衡孔，其形成在预真空腔侧壁上；

平衡结构，其密闭连接第一平衡孔和第二平衡孔；

流量控制装置，其形成在平衡结构上，其用于控制平衡结构内的气体流量。

可选择的，改进所述的压差平衡结构，第一平衡孔和第二平衡孔形成在预真空腔和真空传送模块同侧的侧壁上。

可选择的，改进所述的压差平衡结构，平衡结构是密闭平衡管路。

可选择的，改进所述的压差平衡结构，流量控制装置包括：

角度阀门，其设置在平衡结构中，其用于控制平衡结构内的气体流量；

电磁阀，其设置在平衡结构外壁上，其用于驱动角度阀门开启角度。

可选择的，改进所述的压差平衡结构，流量控制装置包括：

角度阀门，其设置在平衡结构中，其用于控制平衡结构内的气体流量；

压缩空气装置，其设置在平衡结构外壁上，其用于驱动角度阀门开启角度。

可选择的，改进所述的压差平衡结构，还包括：