[实用新型]一种化学气相淀积反应室用气体注入环

说明书

本实用新型公开了一种化学气相淀积反应室用气体注入环，包括气体注入环本体、进气旋钮和反应室本体，所述气体注入环本体的内环设置有调节结构，所述调节结构包括喷气管、翻转轴、锁紧螺母、翻转固定座、进气口和波纹管，所述气体注入环本体的内环均匀连通有喷气管，所述喷气管与气体注入环本体之间设置有翻转固定座，本实用新型通过在喷气管的顶端设置有翻转轴，喷气管与翻转轴固定，利用翻转轴可在翻转固定座上进行伸缩，伸缩完成后并利用两侧锁紧螺母进行锁紧，在翻转的同时，由于采用波纹管连接喷气管和气体注入环本体，因此可将喷气管随意翻转，不会造成气体测出的情况，继而改变喷气角度，提升喷气均匀性。

技术领域

本实用新型涉及气体注入环技术领域，具体为一种化学气相淀积反应室用气体注入环。

背景技术

高密度等离子体主要是以气体的形式与沉积反应室内部接触反应，主要通过气体注入环进行高密度等离子体的注入，此过程用于半导体制造领域，目前气体注入环在市面上的种类较多，且基本满足日常使用需求：

但该种气体注入环在使用时也仍旧会存在一些缺陷，如在使用气体注入环进行等离子体气体注入过程时会出现注入不够均匀的情况，从而影响反应的效果。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种化学气相淀积反应室用气体注入环，以解决上述背景技术中提出的注入不均匀的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种化学气相淀积反应室用气体注入环，包括气体注入环本体、进气旋钮和反应室本体，所述气体注入环本体的内环设置有调节结构，所述调节结构包括喷气管、翻转轴、锁紧螺母、翻转固定座、进气口和波纹管，所述气体注入环本体的内环均匀连通有喷气管，所述喷气管与气体注入环本体之间设置有翻转固定座，所述翻转固定座的中间位置处设置有翻转轴，所述翻转轴的两端连接有锁紧螺母，所述翻转轴的顶端设置有波纹管，所述波纹管顶端贯穿并延伸至气体注入环本体的内部设置有进气口，所述气体注入环本体的底部设置有反应室本体。

优选的，所述气体注入环本体与反应室本体之间的两侧设置有安装结构，所述安装结构包括卡槽、预留槽、预留块、弹簧槽、伸缩卡块和卡合弹簧，所述反应室本体顶端的两侧设置有预留块，所述气体注入环本体底端的两侧开设有预留槽，所述预留块插设到预留槽的内部，所述预留槽内部的一侧设置有弹簧槽，所述弹簧槽的内部设置有卡合弹簧，所述卡合弹簧的一侧固定有伸缩卡块，所述伸缩卡块的一侧贯穿并延伸至预留槽的内部。

优选的，所述喷气管贯穿至翻转轴的顶端，所述波纹管与喷气管相连通，所述喷气管利用翻转轴设计为翻转结构。

优选的，所述波纹管设计成表面为褶皱状的管状结构，所述波纹管设计为可伸缩结构。

优选的，所述预留块的表面开设有卡槽，所述伸缩卡块插设到卡槽的内部，所述预留块通过卡槽与伸缩卡块之间构成卡合结构。

优选的，所述伸缩卡块的宽度小于弹簧槽的内部宽度，所述伸缩卡块利用卡合弹簧在弹簧槽的内部设计为伸缩结构。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1、通过在喷气管的顶端设置有翻转轴，喷气管与翻转轴固定，利用翻转轴可在翻转固定座上进行伸缩，伸缩完成后并利用两侧锁紧螺母进行锁紧，在翻转的同时，由于采用波纹管连接喷气管和气体注入环本体，因此可将喷气管随意翻转，不会造成气体侧出的情况，继而改变喷气角度，提升喷气均匀性；

2、通过将该气体注入环本体放置到反应室本体上，并进行固定，为提高固定的便携性，反应室本体顶端的两侧固定有预留块，而气体注入环本体底部的两侧开设有预留槽，预留块插设到预留槽的内部后被预留槽内一侧伸缩卡块进行卡合，伸缩卡块利用一侧卡合弹簧卡合到预留块的卡槽内，实现快速安装，拆卸时则拉出反应室本体，伸缩卡块收缩进一侧弹簧槽的内部完成拆卸。

附图说明

图1为本实用新型的正视外观结构示意图；