[实用新型]去除石英玻璃棒杂质的装置

说明书

本实用新型涉及石英玻璃棒杂质去除技术领域，且公开了去除石英玻璃棒杂质的装置，包括底座、第一连熔炉、入料口和一号高频电磁加热器，所述底座的左上端设置有制氢机，所述制氢机的上端连接有输氢管道，本实用新型直接将石英粉体加入连熔炉内生产，并通过高温焙烧、熔融、加入双循环氦气置换气态杂质排放，同时，再通过真空中频炉二次高温加热处理，加入氦气双循环回流工艺，排放各种金属杂质、非金属杂质、气态杂质的目的，一体式生产和去除石英靶棒杂质与羟基，替代了目前应用的连熔生产石英棒，二次运用真空脱羟炉进行脱羟处理的技术效果，减少了生产环节，达到一次性处理杂质与羟基含量的最佳效果，达到总杂质含量与羟基含量达到≤10ppm。

技术领域

本实用新型涉及石英玻璃棒杂质去除技术领域，具体为去除石英玻璃棒杂质的装置。

背景技术

目前在石英玻璃行业，连熔法生产的石英玻璃棒的杂质含量一般都在≥50ppm以上，不能够满足客户的应用需求，只有将石英棒内含的各种杂质含量降低到≤10ppm以下，在生产石英玻璃棒的过程中，会使用到去除杂质的装置，虽然去除杂质装置的种类有很多，但是依然无法满足使用者的需求。

现有的石英玻璃棒去除杂质的装置，生产环节多，处理杂质与羟基含量的效果很差，导致产品的杂质含量过高，其次无法对真空中频炉内的温度进行实时监测，不利于控制真空中频炉内的实际温度，因此迫切的需要去除石英玻璃棒杂质的装置来解决上述不足之处。

实用新型内容

针对现有技术的不足，本实用新型提供了去除石英玻璃棒杂质的装置，解决了现有的石英玻璃棒去除杂质的装置，生产环节多，处理杂质与羟基含量的效果很差，导致产品的杂质含量过高，其次无法对真空中频炉内的温度进行实时监测，不利于控制真空中频炉内的实际温度的问题。

本实用新型提供如下技术方案：去除石英玻璃棒杂质的装置，包括底座、第一连熔炉、入料口和一号高频电磁加热器，所述底座的左上端设置有制氢机，所述制氢机的上端连接有输氢管道，所述输氢管道的末端与第一连熔炉的左侧相连通，并且延伸至第一钨钼坩埚内，所述第一连熔炉的上端开设有入料口，所述第一连熔炉的右侧固定设置有一号排气孔，所述第一钨钼坩埚的下端连接有输料管道，所述输料管道上设置有阀门，所述输料管道的末端穿过第二连熔炉的左侧壁，并且延伸至第二钨钼坩埚内，所述第一连熔炉的内壁上设置有一号高频电磁加热器，所述第二连熔炉的内部上设置有二号高频电磁加热器，所述第二连熔炉的上端设置有封盖，所述第二连熔炉的右端开设有二号排气孔，所述第二连熔炉的右侧设置有真空中频炉，所述真空中频炉的靠下端被支撑架所支撑，所述支撑架的下端固定连接底座，所述真空中频炉的底部开设有出料口，所述真空中频炉的上端设置有炉盖，所述真空中频炉的右侧固定连接支撑平台，所述支撑平台的上端设置有真空泵，所述真空泵与抽管相连接，所述抽管的末端与真空中频炉相连通，所述真空中频炉的左侧设置有第二加氦气口，所述抽管的下方设置有三号排气孔。

优选的，所述封盖的左上端设置有第一加氦气口，所述封盖的右上端设置有加氮气口。

优选的，所述出料口处设置有出料阀。

优选的，所述第二加氦气口的正下方设置有温度检测仪。

优选的，所述封盖可以向上打开。

优选的，所述第一钨钼坩埚和第二钨钼坩埚的两侧分别通过连接件与第一连熔炉和第二连熔炉的内壁相连接。

与现有技术对比，本实用新型具备以下有益效果：