[实用新型]一种多反应室CVD炉

权利要求书

1.一种多反应室的CVD炉，其特征在于，包括套筒A、套筒B、产品盘、散气盘、隔板、石墨进气管和传动装置，其中，套筒A底部密封，套筒A顶部设置散气盘，套筒A中间位置设置隔板，隔板上方为上反应室，隔板下方为下反应室，隔板上方和套筒A底部上方分别设置套筒B，套筒B紧贴套筒A，产品盘放置于套筒B上方，石墨进气管上端贯穿套筒A、隔板和产品盘的中心位置，下端设置于套筒A外侧，石墨进气管上设置出气孔，石墨进气管下端设置不锈钢管，不锈钢管通过轴承密封连接进气管道，石墨进气管下端连接传动装置。

2.如权利要求1所述的多反应室的CVD炉，其特征在于，传动装置包括减速机、齿轮A、齿轮B和传动链条，齿轮A套装于不锈钢管外侧，减速机输出轴上设置齿轮B，齿轮A和齿轮B通过传动链条连接。

3.如权利要求1所述的多反应室的CVD炉，其特征在于，散气盘上设置散气孔A，隔板下方处的套筒A上设置散气孔B。

4.如权利要求3所述的多反应室的CVD炉，其特征在于，散气盘厚度为10-20cm，散气孔A直径为5-15mm，散气孔B直径为5-15mm。

5.如权利要求1所述的多反应室的CVD炉，其特征在于，出气孔设置于隔板下方的石墨进气管上。

6.如权利要求1所述的多反应室的CVD炉，其特征在于，上反应室直径为20-40cm,高度为30-50cm，下反应室直径为20-40cm,高度为30-50cm。

7.如权利要求1所述的多反应室的CVD炉，其特征在于，石墨进气管直径为20-80mm。

8.如权利要求1所述的多反应室的CVD炉，其特征在于，出气孔与水平面的角度为30-60°，出气孔直径为5-15mm。

9.如权利要求2所述的多反应室的CVD炉，其特征在于，石墨进气管转速为0.2-3r/min。