[实用新型]一种多反应室CVD炉

说明书

本实用新型涉及一种多反应室CVD炉，属于化学气相沉积技术领域。CVD炉包括套筒A、套筒B、产品盘、散气盘、隔板、石墨进气管和传动装置，其中，套筒A底部密封，套筒A顶部设置散气盘，套筒A中间位置设置隔板，隔板上方为上反应室，隔板下方为下反应室，隔板上方和套筒A底部上方分别设置套筒B，套筒B紧贴套筒A，产品盘放置于套筒B上方，石墨进气管上端贯穿套筒A、隔板和产品盘的中心位置，下端设置于套筒A外侧，石墨进气管上设置出气孔，石墨进气管下端设置不锈钢管，不锈钢管通过轴承密封连接进气管道，石墨进气管下端连接传动装置。本实用新型通过增加反应腔室数量和石墨进气管的旋转功能，提高产品产出率及气体利用率，降低生产成本。

技术领域

本实用新型涉及一种多反应室CVD炉，属于化学气相沉积技术领域。

背景技术

原子吸收管是原子吸收光谱仪中的核心部件。原子吸收光谱仪根据物质基态原子蒸汽对特征辐射吸收的作用来进行金属元素分析，它能够灵敏可靠地测定微量或痕量元素。热解涂层的(石墨)原子管通过改善石墨基体的纯度、强度以及耐腐蚀性，能有效避免石墨管的氧化，从而延长石墨管的寿命，同时涂层也可以防止样品侵入石墨管，从而提高其灵敏性和重复性。因此热解石墨涂层原子管广泛应用于吸收光谱分析设备以及其他相关领域。

目前进行石墨管涂层的CVD炉为小腔室炉，通过进气管通入甲烷气体，每炉只能安装一个产品盘，每个产品盘放置200-300支石墨管，既单炉涂层管产出200-300支；原子管有多种类型，每种类型所需产品盘构造不同，因此在遇到多种石墨管需涂层时，只能排序生产；生产效率低，气体利用率低，生产成本高。

基于上述问题，有必要开发一种多反应室的CVD炉，通过增加反应腔室数量和石墨进气管的旋转功能，提高产品产出率及气体利用率，降低生产成本。

发明内容

针对现有技术的不足，本实用新型提供一种多反应室的CVD炉，通过增加反应腔室数量和石墨进气管的旋转功能，提高产品产出率及气体利用率，降低生产成本。

本实用新型的技术方案如下：

一种多反应室的CVD炉，包括套筒A、套筒B、产品盘、散气盘、隔板、石墨进气管和传动装置，其中，套筒A底部密封，套筒A顶部设置散气盘，套筒A中间位置设置隔板，隔板上方为上反应室，隔板下方为下反应室，隔板上方和套筒A底部上方分别设置套筒B，套筒B紧贴套筒A，产品盘放置于套筒B上方，石墨进气管上端贯穿套筒A、隔板和产品盘的中心位置，下端设置于套筒A外侧，石墨进气管上设置出气孔，石墨进气管下端设置不锈钢管，不锈钢管通过轴承密封连接进气管道，石墨进气管下端连接传动装置，通过传动装置带动石墨进气管旋转。

优选的，传动装置包括减速机、齿轮A、齿轮B和传动链条，齿轮A套装于不锈钢管外侧，减速机输出轴上设置齿轮B，齿轮A和齿轮B通过传动链条连接。通过减速机转动带动不锈钢管旋转，进而带动石墨进气管旋转，使气体分布更均匀。

优选的，散气盘上设置散气孔A，隔板下方处的套筒A上设置散气孔B，通过散气孔A和散气孔B散发多余气体。

进一步优选的，散气盘厚度为10-20cm，散气孔A直径为5-15mm，散气孔B直径为5-15mm。

优选的，出气孔设置于隔板下方的石墨进气管上。

优选的，上反应室直径为20-40cm,高度为30-50cm，下反应室直径为20-40cm,高度为30-50cm。

优选的，石墨进气管直径为20-80mm。

优选的，出气孔与水平面的角度为30-60°，出气孔直径为5-15mm。

优选的，石墨进气管转速为0.2-3r/min。