[实用新型]等离子清洗机

说明书

本实用新型公开一种等离子清洗机，该等离子清洗机包括托料治具循环机构，所述托料治具循环机构包括托料治具、送料模组、回料模组和第一升降装置。托料治具用于放置待清洗的物料，送料模组包括并行且间隔排布的两条送料导轨、以及滑动安装于两条送料导轨上的送料件。两条送料导轨的间隔大于托料治具在两条送料导轨的排布方向上的宽度，送料件呈具有开口的半包围结构并能够定位以及带动托料治具移动。回料模组设于送料模组的两条送料导轨之间且位于送料件的下方，并能够带动托料治具移动。第一升降装置设于回料模组的下方，升降装置能够带动托料治具在送料模组和回料模组之间循环切换。本实用新型等离子清洗机可提高清洗效率。

技术领域

本实用新型涉及等离子清洗机技术领域，特别涉及一种等离子清洗机。

背景技术

在IC行业中，基板和引线框架在生产时通常会遗留有溢胶、氧化物等污染物，进而影响焊线效果。目前主要是通过等离子清洗机对基板和引线框架进行清洗，但是一些等离子清洗机的清洗效率较低，进而影响生产成本。

上述内容仅用于辅助理解实用新型的技术方案，并不代表承认上述内容是现有技术。

实用新型内容

本实用新型的主要目的是提出一种等离子清洗机，旨在解决现有的一些等离子清洗机的清洗效率较低，进而影响生产成本的技术问题。

为实现上述目的，本实用新型提出的等离子清洗机包括料盒安装机构、腔体模组和托料治具循环机构。所述料盒安装机构用于安装存放有物料的料盒，所述腔体模组用于对所述物料进行清洗。所述托料治具循环机构能够在所述料盒安装机构和所述腔体模组之间运送所述物料，所述托料治具循环机构包括托料治具、送料模组、回料模组和第一升降装置。

所述托料治具用于放置待清洗的物料，所述送料模组包括并行且间隔排布的两条送料导轨、以及滑动安装于所述两条送料导轨上的送料件。所述两条送料导轨的间隔大于所述托料治具在所述两条送料导轨的排布方向上的宽度，所述送料件呈具有开口的半包围结构并能够定位以及带动所述托料治具移动。所述回料模组设于所述送料模组的所述两条送料导轨之间且位于所述送料件的下方，并能够带动所述托料治具移动。第一升降装置设于所述回料模组的下方，所述升降装置能够带动所述托料治具在所述送料模组和所述回料模组之间循环切换。

在一实施例中，所述送料件具有与所述两条送料导轨一一对应滑动连接的两个滑动部，每个所述滑动部连接有朝向另一滑动部凸出的定位块，所述定位块用以支撑及定位所述托料治具。

在一实施例中，所述定位块与所述送料件转动连接，且其转动轴线平行于所述送料导轨的延伸方向，以使所述定位块能够向上翻转。

在一实施例中，所述回料模组包括并行且间隔排布的两条回料导轨，至少一条所述回料导轨上滑动安装有回料件，所述回料件能够定位以及带动所述托料治具移动。

在一实施例中，托料治具还设有与所述回料件适配的第二定位槽，所述回料件可卡接于所述第二定位槽内；和/或，

所述托料治具的底面和/或侧面凸设有滚珠结构，所述滚珠结构可与所回料模组的所述回料导轨滚动接触。

在一实施例中，所述等离子清洗机还包括推料机构，所述推料机构用于将所述料盒内待清洗的物料推出，以及将清洗完成的物料推回所述料盒，所述推料机构包括推料模组、调整模组和推料件。

所述推料模组包括推料导轨和推料驱动件，所述调整模组包括调整导轨和调整驱动件，所述调整导轨滑动安装于所述推料导轨上并与所述推料导轨呈十字交叉设置，所述调整导轨可被所述推料驱动件驱动而滑动。所述推料件滑动安装于所述调整导轨上，并可被所述调整驱动件驱动而滑动。