[实用新型]一种真空镀膜设备

权利要求书

1.一种真空镀膜设备，其特征在于，包括真空室、底座、扩散泵、旋片泵、罗茨泵等组成，真空室放置于底座上，真空室后部连接管道和真空泵，真空室为前置开门型，前部设有门；真空室内部上方设有放料镀膜盘，转盘电机设于真空室顶部外侧，放料镀膜盘的下方设有镀膜蒸发装置，镀膜蒸发装置包括电子枪、第一蒸发器和第二蒸发器；镀膜辅助装置有离子源；真空室的后部设置有粗抽阀和前级阀，前级阀位于下方，粗抽位于上方，粗抽阀设有第一管道连接至罗茨泵，罗茨泵下方连接设置有旋片泵。

2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备，其特征在于，所述放料镀膜盘整体呈弧形结构。

3.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备，其特征在于，所述放料镀膜盘设有分体式的放料架，放料架呈扇形结构，围绕放料镀膜盘中心设置，放料盘上部设有把手。

4.根据权利要求3所述的一种真空镀膜设备，其特征在于，所述放料架为弧形结构。

5.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备，其特征在于，所述离子源、电子枪、第一蒸发器和第二蒸发器环形排布在真空室内侧下部。

6.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备，其特征在于，所述前级阀的设置由扩散泵连接至第一管道。

7.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备，其特征在于，所述第一蒸发器和第二蒸发器均为利用蒸发舟蒸发药品结构的热蒸发装置。

8.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备，其特征在于，所述电子枪采用蒸发坩埚，用于蒸发镀膜材料。

9.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备，其特征在于，所述门上开设有观测用玻璃窗口，玻璃窗口内设有滤光玻璃。