[实用新型]一种真空镀膜设备

说明书

本实用新型涉及镀膜设备技术领域，具体是一种真空镀膜设备，包括真空仓体、底座、扩散泵、旋片泵、罗茨泵等组成。真空仓体置于底座上，通过管道和阀门连接至真空泵；真空仓体内部上方悬挂可放置产品的镀膜盘，镀膜盘上配有手柄以便放取方便；镀膜盘放置于旋转机构上，旋转机构由电机带动旋转；真空室内部装有离子源、电子枪和两套热蒸发源，本实用新型公开的一种真空镀膜设备，设有转盘连续旋转使基材与镀膜装置可以保持对应位置，确保镀膜均匀，设有分体式的放料架，方便快速更换上料，提高生产效率。

技术领域

本实用新型属于镀膜设备技术领域，尤其涉及一种真空镀膜设备。

背景技术

薄膜制备过程多采用真空镀膜技术，真空镀膜技术在当前微电子技术和为微构件制备领域中具有举足轻重的地位。真空镀膜技术要依赖真空环境下利用物理或化学手段在工件表面沉积，一种是物理气相沉积，即PVD；另一种是化学气相沉积，称为CVD。热蒸发较为简单、应用较多，即利用物质受热后的蒸发或升华将其转化为气态再沉积在基片表面。通常会将蒸镀材料放在蒸镀容器中，让加热器对蒸镀容器加热，使其内的蒸镀材料转化为气态沉积在基片表面，从而达到蒸镀成膜的目的。

现有的镀膜设备，镀膜材料的发生装置与基材放置位置不同影响基材的镀膜质量，因此需要一种可以解决这个问题的真空镀膜设备。

实用新型内容

为了解决上述问题，本实用新型公开的一种真空镀膜设备，设有转盘循环旋转使基材与镀膜装置可以保持对应位置，确保镀膜均匀，设有分体式的放料架，方便快速更换上料，提高生产效率。

为了达到上述目的，本实用新型采用以下技术方案：

一种真空镀膜设备，包括真空室、底座、扩散泵、旋片泵和罗茨泵，真空室置于底座上，真空室后部连接阀门和泵组，真空室正面设有门，真空室内部上方设有放料镀膜盘，转盘电机设于真空室外侧顶部，放料镀膜盘的下方设有镀膜蒸发装置，镀膜蒸发装置包括电子枪、第一蒸发器和第二蒸发器；镀膜辅助装置包括离子源；真空室的后部设置有粗抽阀和前级阀，前级阀位于下方，粗抽阀位于上方，粗抽阀设有第一管道连接至罗茨泵，罗茨泵下方连接旋片泵。

进一步的，所述放料镀膜盘整体呈弧形结构，中心为转轴，连接至转盘电机。

进一步的，所述放料镀膜盘设有分体式的放料架（镀膜盘），放料架呈扇形结构，围绕放料镀膜盘中心设置，放料架上部设有把手。

进一步的，所述放料架为弧形结构。

进一步的，所述离子源、电子枪、第一蒸发器和第二蒸发器环形排布在真空室内底部，并且均位于放料架的正下方，基材旋转到每个装置的正方时，距离保持一致，镀膜效果更均匀。

进一步的，所述前级阀的设置由扩散泵连接至第二管道。

进一步的，所述第一蒸发器和第二蒸发器均为利用蒸发舟蒸发镀膜材料结构的热蒸发装置。

进一步的，所述电子枪内设有蒸发用坩埚，将坩埚里的非镀膜物质用电子束加热及蒸发的装置。

进一步的，所述门上开设有观测用玻璃窗口，玻璃窗口内设有滤光玻璃，过滤掉大多数光线，方便作业时工作人员能够不被电子束强光刺眼并能够观测真空室内部。

本实用新型有益效果

本实用新型公开的一种真空镀膜设备，设有转盘连续旋转使基材与镀膜装置可以保持对应位置，确保镀膜均匀，设有分体式的放料架，方便快速更换上料，提高生产效率。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。