[实用新型]一种硅片清洗装置

权利要求书

1.一种硅片清洗装置，其特征在于，包括：

槽体(1)，待清洗的硅片置于所述槽体(1)内的清洗液中，所述槽体(1)的底部设置有出水口，所述出水口处设置有过滤网(11)；

气管组件，包括气管和支架(3)，所述支架(3)固定在所述槽体(1)底面，所述气管上开设多个通气孔，所述气管置于所述硅片的下方并固定在所述支架(3)上；所述气管组件与所述过滤网(11)沿竖直方向间隔设置，且所述过滤网(11)位于所述气管组件在所述槽体(1)底面上的投影外。

2.根据权利要求1所述的硅片清洗装置，其特征在于，所述气管包括进气管和多个支管(22)，多个所述支管(22)的一端均与所述进气管的出气端连通，多个所述支管(22)的另一端均封堵，所述通气孔开设在所述支管(22)上，且多个所述支管(22)均固定在所述支架(3)上。

3.根据权利要求2所述的硅片清洗装置，其特征在于，所述支管(22)呈U型，所述支管(22)其中一个末端与所述进气管的出气端连通，另一个末端封堵。

4.根据权利要求3所述的硅片清洗装置，其特征在于，所述气管包括两个所述支管(22)，所述气管上还设有三通接头，所述三通接头的三个端口分别连通于两个所述支管(22)的进气端以及所述进气管的出气端。

5.根据权利要求4所述的硅片清洗装置，其特征在于，所述支架(3)设置有两个，所述支管(22)与所述支架(3)一一对应固定，所述过滤网(11)设置于两个所述支架(3)之间。

6.根据权利要求5所述的硅片清洗装置，其特征在于，所述支架(3)呈板状，所述支架(3)的底面固定于所述槽体(1)内侧的底面上，所述支架(3)的顶面上开设有两个定位槽，所述支管(22)的两个直管段(221)分别固定在两个所述定位槽内。

7.根据权利要求2所述的硅片清洗装置，其特征在于，所述气管还包括延长管(23)，所述延长管(23)固定在所述槽体(1)的内侧壁上，所述延长管(23)的一端与所述支管(22)的进气端连通，另一端与所述进气管的出气端连通。

8.根据权利要求2所述的硅片清洗装置，其特征在于，所述硅片清洗装置还包括供气组件，所述供气组件包括气泵，所述进气管的进气端穿设所述槽体(1)的槽壁并连接于所述气泵的出气端。

9.根据权利要求1所述的硅片清洗装置，其特征在于，所述槽体(1)内还设有承接组件，所述硅片置于所述承接组件上，且当所述硅片置于所述承接组件上时，所述清洗液的液面在所述硅片的上方。

10.根据权利要求1所述的硅片清洗装置，其特征在于，所述槽体(1)和所述气管组件的材料均为塑料。