[实用新型]一种硅片清洗装置

说明书

本实用新型涉及硅片清洗技术领域，公开了一种硅片清洗装置。硅片清洗装置包括槽体和气管组件。待清洗的硅片置于槽体内的清洗液中，槽体的底部设置有出水口，出水口处设置有过滤网。气管组件包括气管和支架，支架固定在槽体底面，气管上开设多个通气孔，气管置于硅片的下方并固定在支架上；气管组件与过滤网沿竖直方向间隔设置，且过滤网位于气管组件在槽体底面上的投影外。本实用新型，降低了清理的难度，避免了碎片在槽体内部残留，保证后续的清洗效果。

技术领域

本实用新型涉及硅片清洗技术领域，尤其涉及一种硅片清洗装置。

背景技术

在硅基板太阳能电池生产过程中，需要使用硅片作为电池的基体材料，为了增加对太阳能光的吸收，需要对硅片表面进行绒面处理，即利用酸性液或碱性液对硅片表面进行腐蚀从而形成绒面。在绒面形成后，还需要在水槽内的水中将硅片表面的酸碱残留液以及硅碎片清洗掉。为了保证清洗效果，通常在水槽内设置气管，气管通过支架固定在水槽内，气管壁上开设通气孔，硅片置于气管上方。供气组件向气管通气，使气体从通气孔进入清洗液内，形成气泡，气泡与硅片接触保证清洗效果。槽体上的出水口处一般设有过滤网，当过滤网处累积一定量的硅碎片时，操作人员需要清理碎片，而现有技术中用于固定气管的支架遮挡过滤网的上方，支架的位置阻碍了清理碎片，增加了清理的难度，也使碎片残留在槽体内部，影响后续的清洗效果。

基于此，亟需一种硅片清洗装置用来解决如上提到的问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种硅片清洗装置，降低了清理的难度，避免了碎片在槽体内部残留，保证了后续的清洗效果。

为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：

一种硅片清洗装置，包括：

槽体，待清洗的硅片置于所述槽体内的清洗液中，所述槽体的底部设置有出水口，所述出水口处设置有过滤网；

气管组件，包括气管和支架，所述支架固定在所述槽体底面，所述气管的上开设多个通气孔，所述气管置于所述硅片的下方并固定在所述支架上；所述气管组件与所述过滤网沿竖直方向间隔设置，且所述过滤网位于所述气管组件在所述槽体底面上的投影外。

优选地，所述气管包括进气管和多个支管，多个所述支管的一端均与所述进气管的出气端连通，多个所述支管的另一端均封堵，所述通气孔开设在所述支管的管壁上，且多个所述支管均固定在所述支架上。

优选地，所述支管呈U型，所述支管其中一个末端与所述进气管的出气端连通，另一个末端封堵。

优选地，所述气管包括两个所述支管，所述气管上还设有三通接头，所述三通接头的三个端口分别连通于两个所述支管的进气端以及所述进气管的出气端。

优选地，所述支架设置有两个，所述支管与所述支架一一对应固定，所述过滤网设置于两个所述支架之间。

优选地，所述支架呈板状，所述支架的底面固定于所述槽体内侧的底面上，所述支架的顶面上开设有两个定位槽，所述支管的两个直管段分别固定在两个所述定位槽内。

优选地，所述气管还包括延长管，所述延长管固定在所述槽体的内侧壁上，所述延长管的一端与所述支管的进气端连通，另一端与所述进气管的出气端连通。

优选地，所述硅片清洗装置还包括供气组件，所述供气组件包括气泵，所述进气管的进气端穿设所述槽体的槽壁并连接于所述气泵的出气端。

优选地，所述槽体内还设有承接组件，所述硅片置于所述承接组件上，且当所述硅片置于所述承接组件上时，所述清洗液的液面在所述硅片的上方。

优选地，所述槽体和所述气管组件的材料均为塑料。