[实用新型]半导体设备气柜泄漏检测装置

说明书

本实用新型公开了一种半导体设备气柜泄漏检测装置，包括：固定部设置在半导体设备气柜排气管内侧壁旁侧，其用于固定承载部；承载部用于承载检测颗粒，其位于半导体设备气柜上方；多颗检测颗粒，其为酸性检测指示剂，其遇酸性变色。本实用新型酸性指示剂变色能被安全人员及时发现，可以弥补侦测器报警下限范围之外的检测空白区域，避免由于氯气微泄漏造成的环境危害和设备损伤。

技术领域

本实用新型涉及集成电路制造领域，特别是涉及一种集成电路芯片制造工艺中氯气供给半导体设备气柜的泄漏检测装置。

背景技术

集成电路芯片制造工艺中氯气从厂务端供给到设备的气柜，由气柜内部的气体流量计和阀门控制流向腔体，经工艺反应，再由分子泵和干泵排出腔体到除害桶，最后进入废气管道，参考图1所示。

氯气具有腐蚀性和毒性，在日常生产中要对氯气是否发生泄漏进行日常检测。在生产的日常检测中，设备端：进行腔体测漏和气体流量计偏差测试，腔体漏率标准为低于1.5毫托每分钟，气体流量计偏差标准为±3％以内；厂务端：参考图2所示，从气柜的结构可知由于厂务在气柜框体上设置了负压排气管道，使气柜内部压力略低于外部大气压力，并在排气管道内部设置了气体采样点，当气体浓度超过侦测器报警线时，自动切断气体供应，同时发出声光报警，气体侦测器设置报警下限为0.5ppm。

但是，在是实际生产中，当气柜内部氯气管路或阀门出现微量的泄漏：小于流量计偏差±3％范围，同时外泄浓度低于0.5ppm时，不会体现在腔体漏率监测中，设备端和厂务端日常检测方法也不能及时发现。微量泄漏的氯气经过长时间累积，会对生产设备和环境造成危害，需要及时发现微量泄漏并进行维修。

实用新型内容

在实用新型内容部分中引入了一系列简化形式的概念,该简化形式的概念均为本领域现有技术简化，这将在具体实施方式部分中进一步详细说明。本实用新型的实用新型内容部分并不意味着要试图限定出所要求保护的技术方案的关键特征和必要技术特征，更不意味着试图确定所要求保护的技术方案的保护范围。

本实用新型要解决的技术问题是提供一种能及时准确发现半导体设备气柜内氯气微量(外泄浓度低于0.5ppm)泄漏的检测装置。

为解决上述技术问题，本实用新型提供的半导体设备气柜泄漏检测装置，包括：

固定部，其设置在半导体设备气柜排气管内侧壁，其用于固定承载部；

承载部，其用于承载检测颗粒，其位于半导体设备气柜上方；

多颗检测颗粒，其为酸性检测指示剂，其遇酸性变色。

可选择的，进一步改进所述的半导体设备气柜泄漏检测装置，所述固定部是一端固定在半导体设备气柜排气管内侧壁的支架。

可选择的，进一步改进所述的半导体设备气柜泄漏检测装置，所述承载部形成是透明管状结构，其顶部和底部形成有透气顶盖和底板。

可选择的，进一步改进所述的半导体设备气柜泄漏检测装置，所述顶盖和底板是滤网。

可选择的，进一步改进所述的半导体设备气柜泄漏检测装置，承载部直径范围是10mm-30mm，长度范围是50mm-150mm。

可选择的，进一步改进所述的半导体设备气柜泄漏检测装置，所述承载部和滤网由石英、四氟乙烯或酚醛乙烯树脂制造。

可选择的，进一步改进所述的半导体设备气柜泄漏检测装置，承载部距离半导体设备气柜顶壁的高度范围是10mm-300mm，距离排风管距离是10mm-50mm。

可选择的，进一步改进所述的半导体设备气柜泄漏检测装置，检测颗粒是球状，其内为Al2O3吸附剂，其外表面形成有溴酚蓝PH指示剂涂层。

可选择的，进一步改进所述的半导体设备气柜泄漏检测装置，检测颗粒的数量范围为1颗-20颗。