[实用新型]一种半导体制备扩散炉

权利要求书

1.一种半导体制备扩散炉，包括扩散炉主体（1），其特征在于：所述扩散炉主体（1）左端设置有石英炉门（2），所述石英炉门（2）内侧设置有保温桶（3），所述扩散炉主体（1）内部固定设置有滑道（4），所述滑道（4）上滑动装配有石英舟（5），所述石英舟（5）的左边设置有挡板（6），所述挡板（6）通过吊环（7）挂设在扩散炉主体（1）内壁顶端，所述石英舟（5）上方设置有喷淋管（8），所述石英舟（5）下方设置有排废管（10），所述排废管（10）旁边设置有TC管（11），所述喷淋管（8）和排废管（10）均从扩散炉主体（1）右端穿入，所述扩散炉主体（1）右端中间固定设置有进气管（13），所述进气管（13）内侧设置有匀流板（12）。

2.根据权利要求1所述的一种半导体制备扩散炉，其特征在于：所述石英炉门（2）内侧边沿处设置有环形凹槽（201），所述环形凹槽（201）内设置有密封圈（202），所述环形凹槽（201）内侧设置有圆形凸台（203），所述环形凹槽（201）卡在扩散炉主体（1）左端口上，所述圆形凸台（203）卡进扩散炉主体（1）左端口内。

3.根据权利要求1所述的一种半导体制备扩散炉，其特征在于：所述保温桶（3）由多组结构相同的石英片（301）和石英支柱（302）组成，且所述石英片（301）相互平行，所述石英片（301）为不透明石英材质，所述石英片（301）之间通过石英支柱（302）焊接连接。

4.根据权利要求1所述的一种半导体制备扩散炉，其特征在于：所述喷淋管（8）上均匀开设有若干组喷淋孔（801），所述喷淋孔（801）的直径从右至左逐渐增大。

5.根据权利要求1所述的一种半导体制备扩散炉，其特征在于：所述匀流板（12）上均匀设置有若干组结构相同的散气孔（121）。

6.根据权利要求1所述的一种半导体制备扩散炉，其特征在于：所述TC管（11）设置有热电偶。

7.根据权利要求1所述的一种半导体制备扩散炉，其特征在于：所述扩散炉主体（1）内壁上焊接有固定环（9），所述喷淋管（8）上设置有三组固定环（9），所述排废管（10）上设置有三组固定环（9），所述TC管（11）上设置有两组固定环（9）。