[实用新型]双能量成像设备有效
申请号: | 202022217941.4 | 申请日: | 2020-09-30 |
公开(公告)号: | CN213813966U | 公开(公告)日: | 2021-07-27 |
发明(设计)人: | 米科·马蒂卡拉 | 申请(专利权)人: | 芬兰探测技术股份有限公司 |
主分类号: | G01T1/20 | 分类号: | G01T1/20 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 许春波;杨明钊 |
地址: | 芬兰*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 能量 成像 设备 | ||
1.一种双能量成像设备(100),其特征是,所述双能量成像设备包括:
检测器(101),其包括多个像素(201),其中所述多个像素包括被配置为检测第一能量范围内的入射的x射线辐射或伽马射线辐射的第一像素子集(202)和被配置为检测第二能量范围内的入射的x射线辐射或伽马射线辐射的第二像素子集(203),其中所述第二能量范围是所述第一能量范围的子范围;以及
耦合到所述检测器(101)的处理单元(102),所述处理单元被配置为:
从所述多个像素中的每个像素获得信号;
基于每个像素的信号,获得所述多个像素中的每个像素的辐射强度值;以及
使用插值计算所述第二像素子集中的至少一个像素的在所述第一能量范围内的辐射强度估计。
2.根据权利要求1所述的双能量成像设备(100),其中,所述处理单元(102)还被配置为:
使用插值计算所述第一像素子集中的至少一个像素的在所述第二能量范围内的辐射强度估计。
3.根据权利要求1或2所述的双能量成像设备(100),其中,所述检测器(101)还包括滤波器(205),所述滤波器(205)被布置成阻挡入射的x射线辐射或伽马射线辐射的在所述第二能量范围之外的至少一部分进入所述第二像素子集(203)。
4.根据权利要求3所述的双能量成像设备(100),其中,所述滤波器(205)还包括多个孔,所述多个孔被布置成允许入射的x射线辐射或伽马射线辐射进入所述第一像素子集(202)。
5.根据权利要求1-2和4中任一项所述的双能量成像设备(100),其中,所述第一像素子集和所述第二像素子集在空间上被布置成交替图案。
6.根据权利要求3所述的双能量成像设备(100),其中,所述第一像素子集和所述第二像素子集在空间上被布置成交替图案。
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