[实用新型]双能量成像设备

说明书

本申请涉及双能量成像设备。目的是提供一种用于x射线和/或伽马射线检测的设备。根据实施例，设备包括：包括多个像素的检测器，其中多个像素包括被配置为检测第一能量范围内的入射的x射线辐射或伽马射线辐射的第一像素子集和被配置为检测第二能量范围内的入射的x射线辐射或伽马射线辐射的第二像素子集；处理单元，其被配置为：从多个像素中的每个像素获得信号；基于每个像素的信号获得多个像素中的每个像素的辐射强度值；计算第二像素子集中至少一个像素的在第一能量范围内的辐射强度估计。提供了一种设备。

技术领域

本公开涉及x射线和伽马射线检测器领域，更具体地，涉及用于x射线和/或伽马射线检测的设备。

背景技术

在双能量成像(dual-energy imaging)中，可以获得对象在两个能量范围内的电磁辐射(诸如，x射线)的衰减。然后，与仅使用单一能量范围相比，该信息可用于生成更详细的对象图像。

实用新型内容

提供本概述是为了以简化形式介绍以下在详细描述中进一步描述的一系列概念。本概述不旨在标识出要求保护的主题的关键特征或必要特征，亦不旨在用于限定要求保护的主题的范围。

目的是提供一种用于x射线和/或伽马射线检测的设备。上述目的和其他目的通过独立权利要求的特征来实现。根据从属权利要求、说明书和附图，另外的实现形式是明显的。

根据第一方面，设备包括：包括多个像素的检测器，其中多个像素包括被配置为检测第一能量范围内的入射x射线辐射或伽马射线辐射的第一像素子集和被配置为检测第二能量范围内的入射x射线辐射或伽马射线辐射的第二像素子集，其中第二能量范围是第一能量范围的子范围；以及耦合到检测器的处理单元，该处理单元被配置为：从多个像素中的每个像素获得信号；基于每个像素的信号计算多个像素中的每个像素的辐射强度值；以及使用插值来计算第二像素子集中的至少一个像素的在第一能量范围内的辐射强度估计。例如，该设备可以通过使用插值估计第一能量范围中的缺失信息来提高成像分辨率。

在第一方面的实现形式中，处理单元还被配置为使用插值来计算第一像素子集中的至少一个像素的在第二能量范围内的辐射强度估计。

在第一方面的另一实现形式中，检测器还包括滤波器，该滤波器被布置成阻挡入射的x射线辐射或伽马射线辐射的在第二能量范围之外的至少一部分进入第二像素子集。例如，该设备可以高效地防止第二能量范围之外的入射射线辐射进入第二像素子集。因此，第二像素子集可以用于双能量成像。

在第一方面的另一实现形式中，滤波器还包括多个孔，这些孔被布置成允许入射的x射线辐射或伽马射线辐射进入第一像素子集。例如，该设备可以允许辐射进入第一像素子集，同时防止第二能量范围之外的入射射线辐射进入第二像素子集。因此，第一像素子集和第二像素子集可以用于双能量成像。

在第一方面的另一实现形式中，第一像素子集和第二像素子集在空间上被布置成交替图案。例如，该设备可以使用每隔一个(every other)像素测量第一能量范围内的入射辐射，并且使用每隔一个像素测量第二能量范围内的入射辐射。

许多伴随的特征将更容易被认识到，因为通过参考结合附图考虑的以下详细描述它们变得更好理解。

附图说明

在下文中，参考所附的图形和绘图更详细地描述了示例实施例，其中：

图1图示了根据实施例的设备的示意图；

图2图示了根据实施例的检测器的示意图；

图3图示了根据另一实施例的检测器的示意图；以及

图4图示了根据实施例的辐射强度值插值的示意图。

在下文中，相同的附图标记表示相似或至少功能上等同的特征。

具体实施方式