[实用新型]一种应用于长晶组件的测量及定位装置有效
申请号: | 202022220995.6 | 申请日: | 2020-09-30 |
公开(公告)号: | CN212988316U | 公开(公告)日: | 2021-04-16 |
发明(设计)人: | 张超;李钊;张耀文;湛希栋 | 申请(专利权)人: | 山东天岳先进科技股份有限公司 |
主分类号: | G01B21/08 | 分类号: | G01B21/08 |
代理公司: | 北京君慧知识产权代理事务所(普通合伙) 11716 | 代理人: | 刘晓佳 |
地址: | 250118 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 应用于 组件 测量 定位 装置 | ||
本申请公开了一种应用于长晶组件的测量及定位装置,长晶组件包括具有开放空腔的第一石墨件,装置包括:载物台,用于承载第一石墨件;载物台的外侧设有第一测距器和第二测距器,所述第一测距器用于测量其到所述第一石墨件的外壁之间的距离,所述第二测距器用于测量其到所述第一石墨件的空腔侧壁之间的距离。本申请提供的用于长晶组件的测量及定位装置,通过在载物台的外侧设置第一测距器和第二测距器,使其在不直接接触待测的第一石墨件的情况下,能够测量并计算放置在载物台上的待测第一石墨件的壁厚,以及第一石墨件在载物台上或者相对于第二石墨件是否为同轴放置,避免杂质污染的同时,具有更高的测量准确度,还能有效提高工作效率。
技术领域
本申请属于测量装置技术领域,具体涉及一种应用于长晶组件的测量及定位装置。
背景技术
在碳化硅工业领域,长晶是用于制备碳化硅单晶的必经工艺步骤。现有技术中在制备碳化硅单晶时,多采用PVT法进行长晶,并使用石墨坩埚作为长晶的容器。
其中,石墨坩埚在使用前或使用后,需要对其侧壁多处位置的壁厚进行测量,现有的测量方法通常为使用金属制成的游标卡尺进行手动测量,然而,在手动测量的过程中容易出现较大的尺寸偏差,并且金属卡尺在测量时直接接触石墨坩埚,容易对石墨坩埚造成污染,影响后期长晶的品质;此外,在测量石墨坩埚的多个位置时需要多次移动石墨坩埚,容易对石墨坩埚造成损伤,并且测量效率十分低下。
与此同时,石墨坩埚在使用前还需要与其它构件装配,并要求石墨坩埚在其他构件上方居中放置,即要求石墨坩埚与其它构件同轴。而目前现场使用的将石墨坩埚居中放置的方法,通常仅采用目测结合用量具测量的方式进行,同样存在定位不精准,并且测量效率低下的问题。
实用新型内容
为了解决上述问题,本申请提供了一种应用于长晶组件的测量及定位装置,该装置适合对长晶工艺中所使用的长晶组件进行测量和定位,并能够提高测量以及定位的精准度,避免杂质污染,有效提高工作效率。
其中,所述长晶组件包括具有开放空腔的第一石墨件,所述装置包括:
载物台,用于承载所述第一石墨件;
所述载物台的外侧设有第一测距器和第二测距器,所述第一测距器用于测量其到所述第一石墨件的外壁之间的距离,所述第二测距器用于测量其到所述第一石墨件的空腔侧壁之间的距离。
上述装置在使用时,需要将第一石墨件放置在载物台上,并优选为第一石墨件的空腔开口端朝上。当第一石墨件放置好后,第二测距器可以伸入到第一石墨件的空腔内部,以测量其到空腔侧壁之间的距离。在优选的实施方式中,所述第二测距器位于载物台中心点的正上方,并且沿高度方向可伸缩。在更优选的实施方式中,第一测距器和第二测距器在使用状态下,测距位置位于同一水平线上。
当需要测量第一石墨件的壁厚时,将第二测距器伸入第一石墨件的空腔内部,测量其到空腔侧壁之间的距离,记为a;用第一测距器测量其到第一石墨件外侧壁同一位置处之间的距离,记为b;再移除第一石墨件,将第二测距器重新放置在测量时的位置,用第一测距器测量其到第二测距器之间的距离,记为c,或者直接将第二测距器的发射点位置设置在载物台中心点的正上方,此时c即为第一测距器到载物台中心点之间的距离并且可以提前测量知晓。则,第一石墨件的壁厚为d=c-a-b。
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