[实用新型]一种用于CVD涂层设备的铝反应器有效
| 申请号： | 202022223966.5 | 申请日： | 2020-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN212293739U | 公开（公告）日： | 2021-01-05 |
| 发明（设计）人： | 王彤 | 申请（专利权）人： | 常州艾恩希纳米镀膜科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/44 | 分类号： | C23C16/44;C23C16/52;C23C16/448;C23C16/06 |
| 代理公司： | 上海思牛达专利代理事务所(特殊普通合伙) 31355 | 代理人： | 雍常明 |
| 地址： | 213100 江苏省常州市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 cvd 涂层 设备 反应器 | ||
1.一种用于CVD涂层设备的铝反应器，包括筒体(1)，其特征在于：所述筒体(1)的外侧固定安装有铝反应器固定板(9)，所述筒体(1)的内壁底部焊接安装有测温热电偶支架(4)，所述筒体(1)的底部焊接有下封板(14)，所述下封板(14)的底部固定安装有下封板加热片压板(7)，所述下封板(14)的底部开设有出气口(11)，所述筒体(1)的顶部焊接有上盖法兰散热片(8)，所述上盖法兰散热片(8)的顶部焊接有上盖法兰(13)，所述上盖法兰(13)的顶侧端开设有上盖法兰O型圈沟槽(12)，所述上盖法兰(13)与上盖(2)的外侧均活动安装有锁紧卡箍(3)，所述筒体(1)的顶部活动安装有上盖(2)，所述筒体(1)的内部分别固定安装有进气孔板(5)、出气孔板(6)与测温热电偶套管(10)。
2.根据权利要求1所述的一种用于CVD涂层设备的铝反应器，其特征在于：所述上盖(2)的顶部分别焊接有吊环(15)、把手(16)与进气口(17)。
3.根据权利要求1所述的一种用于CVD涂层设备的铝反应器，其特征在于：所述下封板(14)的底端开设有下封板测温点(18)。
4.根据权利要求1所述的一种用于CVD涂层设备的铝反应器，其特征在于：所述测温热电偶套管(10)位于筒体(1)内部但和筒体(1)内腔隔绝。
5.根据权利要求1所述的一种用于CVD涂层设备的铝反应器，其特征在于：所述下封板(14)上固定安装有加热片，通过下封板加热片压板(7)将加热片固定安装在下封板(14)的底部。
6.根据权利要求1所述的一种用于CVD涂层设备的铝反应器，其特征在于：所述上盖法兰O型圈沟槽(12)的内部放置有O型圈沟槽。
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C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
