[实用新型]一种用于CVD涂层设备的铝反应器有效

专利信息
申请号: 202022223966.5 申请日: 2020-09-30
公开(公告)号: CN212293739U 公开(公告)日: 2021-01-05
发明(设计)人: 王彤 申请(专利权)人: 常州艾恩希纳米镀膜科技有限公司
主分类号: C23C16/44 分类号: C23C16/44;C23C16/52;C23C16/448;C23C16/06
代理公司: 上海思牛达专利代理事务所(特殊普通合伙) 31355 代理人: 雍常明
地址: 213100 江苏省常州市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 cvd 涂层 设备 反应器
【说明书】:

实用新型涉及金属切削刀具和工模具涂层技术领域,且公开了一种用于CVD涂层设备的铝反应器,包括筒体,所述筒体的外侧固定安装有铝反应器固定板,铝反应器的上盖因为需要频繁拆卸添加铝颗粒,采用锁紧卡箍的方式锁紧,既能保证密封性,又能快速拆卸和安装,上盖上安装有吊环和把手,便于搬运整个铝反应器和拆卸移动上盖,上盖法兰处安装有散热片,可以一定程度上降低上盖法兰O型圈沟槽处的温度,延长了上盖法兰O型圈的使用寿命,降低了成本,同时散热片还可起到挡住筒体加热圈的作用,不让筒体加热圈滑落,出气孔板采用螺丝固定的方式固定,方便拆卸进行清洗维护,进气孔板采用卡扣方式固定,位置不会偏移,同时方便拆卸。

技术领域

本实用新型涉及金属切削刀具和工模具涂层技术领域,具体为一种用于CVD涂层设备的铝反应器。

背景技术

CVD是在其它材料(基材)的金属加工用工件例如模具、切削工具、耐磨损、耐腐蚀零件等的表面上成膜的方法,尤其是薄膜形成方法,化学气相沉积的特点是反应气体所含化合物的化学反应的进行,所期望的化学反应主要产物沉积在基材表面上并在那里形成涂层或者说覆膜,可能的反应副产物以气体形态出现并且必须从气体混合物中被除去以保证层膜性能,这通过排气管路来实现,经过涂层的切削刀具、工模具的使用寿命会大大提高,经过涂层的零部件更加耐腐蚀和耐磨损。

在常见的技术中铝反应器的测温元件全部分布在反应器的外部,如顶盖和筒壁,上盖法兰处不带散热片,出气孔板采用焊接固定的方式,但是这些方式也是有缺陷的,测温元件分布在反应器的外部,测温点为外部,和内部的实际温度有偏差,上盖用螺丝紧固的方式锁紧,拆卸和安装不方便,同时容易将螺丝滑丝。

实用新型内容

技术方案

为实现上述能准确的知晓铝反应器内部的温度,上盖能保证密封性,又能快速拆卸和安装目的,本实用新型提供如下技术方案:一种用于CVD涂层设备的铝反应器,包括筒体,所述筒体的外侧固定安装有铝反应器固定板,所述筒体的外壁底部焊接安装有测温热电偶支架,所述筒体的底部焊接有下封板,所述下封板的底部固定安装有下封板加热片压板,所述下封板的底部开设有出气口,所述筒体的顶部焊接有上盖法兰散热片,所述上盖法兰散热片的顶部焊接有上盖法兰,所述上盖法兰的顶侧端开设有上盖法兰O型圈沟槽,所述上盖法兰和上盖的外侧活动安装有锁紧卡箍,所述筒体的顶部活动安装有上盖,所述筒体的内部分别固定安装有进气孔板、出气孔板与测温热电偶套管。

优选的,所述上盖的顶部分别固定安装有吊环、把手与进气口。

优选的,所述下封板的底端外部开设有下封板测温点。

优选的,所述测温热电偶套管位于筒体内部但和筒体内腔隔绝。

优选的,所述下封板上固定安装有加热片,通过下封板加热片压板将加热片固定安装在下封板的底部。

优选的,所述上盖法兰O型圈沟槽的内部放置有O型圈沟槽。

有益效果

与现有技术相比,本实用新型提供了一种用于CVD涂层设备的铝反应器,具备以下有益效果:

1、该用于CVD涂层设备的铝反应器,通过将测温元件通过测温热电偶套管,插入到铝反应器内部,测量铝反应器内部温度,更能准确的知晓铝反应器内部的温度。

2、该用于CVD涂层设备的铝反应器,铝反应器的上盖因为需要频繁拆卸添加铝颗粒,采用锁紧卡箍的方式锁紧,既能保证密封性,又能快速拆卸和安装,上盖上安装有吊环和把手,便于搬运整个铝反应器和拆卸移动上盖,上盖法兰处安装有上盖法兰散热片,可以一定程度上降低上盖法兰O型圈沟槽处的温度,延长了上盖法兰O型圈的使用寿命,降低了成本,同时上盖法兰散热片还可起到挡住筒体加热圈的作用,不让筒体加热圈滑落,出气孔板采用螺丝固定的方式固定,方便拆卸进行清洗维护,进气孔板采用卡扣方式固定,位置不会偏移,同时方便拆卸。

附图说明

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