[实用新型]一种含铜氢氧化镍处理用反应釜

权利要求书

1.一种含铜氢氧化镍处理用反应釜，包括反应釜本体(1)，所述反应釜本体(1)的底端连接有若干个支撑脚(2)，所述反应釜本体(1)的底端开设有放料口(3)，所述放料口(3)上连接有阀门(4)，其特征在于，所述反应釜本体(1)的上端连接有上盖(5)，所述上盖(5)的上端一侧连通有进料口(6)，所述上盖(5)的上端另一侧连通有试剂进口(7)，所述上盖(5)的上端连接有固定架(8)，所述固定架(8)的上端连接有搅拌机构，所述搅拌机构贯穿所述固定架(8)，所述搅拌机构的底端延伸至所述反应釜本体(1)内，所述搅拌机构的底端两侧均连接有固定杆(13)，每个所述固定杆(13)的一端均连接有刮板(14)，每个所述刮板(14)均与所述反应釜本体(1)相配合，每个所述刮板(14)的两侧均连接有凸起(16)，每个所述凸起(16)上均开设有若干个第二通孔(17)，每个所述凸起(16)的底端均开设有凹槽(18)，每个所述凹槽(18)均连通所述第二通孔(17)。

2.根据权利要求1所述的一种含铜氢氧化镍处理用反应釜，其特征在于，所述搅拌机构包括电机(9)，所述电机(9)连接所述固定架(8)，所述电机(9)的输出端驱动连接有转轴(10)，所述转轴(10)贯穿所述固定架(8)，所述转轴(10)的一端延伸至所述反应釜本体(1)内，所述转轴(10)的一端连接有转动辊(11)，所述转动辊(11)的相对两侧均连接有搅拌叶(12)，所述转动辊(11)的底端两侧均连接所述固定杆(13)。

3.根据权利要求1所述的一种含铜氢氧化镍处理用反应釜，其特征在于，每个所述刮板(14)上均开设有若干个第一通孔(15)。

4.根据权利要求1所述的一种含铜氢氧化镍处理用反应釜，其特征在于，所述刮板(14)与所述凸起(16)为一体结构。

5.根据权利要求1所述的一种含铜氢氧化镍处理用反应釜，其特征在于，所述第二通孔(17)等间距分布。