[实用新型]一种含铜氢氧化镍处理用反应釜

说明书

本实用新型涉及反应设备技术领域，尤其是一种含铜氢氧化镍处理用反应釜，包括反应釜本体，上盖的上端连接有固定架，固定架的上端连接有搅拌机构，搅拌机构贯穿固定架，搅拌机构的底端延伸至反应釜本体内，搅拌机构的底端两侧均连接有固定杆，每个固定杆的一端均连接有刮板，每个刮板均与反应釜本体相配合，每个刮板的两侧均连接有凸起，每个凸起上均开设有若干个第二通孔，每个凸起的底端均开设有凹槽，每个凹槽均连通第二通孔。本实用新型通过刮板在转动过程中，第一通孔减小刮板所受到的阻力，同时水流进入第二通孔从凹槽处释放，对刮板底端边缘进行冲击，使得沉淀不会粘结在刮板上。

技术领域

本实用新型涉及反应设备技术领域，尤其涉及一种含铜氢氧化镍处理用反应釜。

背景技术

铜氢氧化镍溶液中含有镍，为了节省原料，通常采用沉淀析出的方法将镍析出，在通过加入浓硫酸将镍析出时，产生的沉淀容易粘结在反应釜的底端，在通过刮板进行刮擦时，沉淀会粘结在刮板上，无法有效的将沉淀排出。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的刮板进行刮擦时，沉淀会粘结在刮板上，无法有效的将沉淀排出缺点，而提出的一种含铜氢氧化镍处理用反应釜。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

设计一种含铜氢氧化镍处理用反应釜，包括反应釜本体，所述反应釜本体的底端连接有若干个支撑脚，所述反应釜本体的底端开设有放料口，所述放料口上连接有阀门，所述反应釜本体的上端连接有上盖，所述上盖的上端一侧连通有进料口，所述上盖的上端另一侧连通有试剂进口，所述上盖的上端连接有固定架，所述固定架的上端连接有搅拌机构，所述搅拌机构贯穿所述固定架，所述搅拌机构的底端延伸至所述反应釜本体内，所述搅拌机构的底端两侧均连接有固定杆，每个所述固定杆的一端均连接有刮板，每个所述刮板均与所述反应釜本体相配合，每个所述刮板的两侧均连接有凸起，每个所述凸起上均开设有若干个第二通孔，每个所述凸起的底端均开设有凹槽，每个所述凹槽均连通所述第二通孔。

优选的，所述搅拌机构包括电机，所述电机连接所述固定架，所述电机的输出端驱动连接有转轴，所述转轴贯穿所述固定架，所述转轴的一端延伸至所述反应釜本体内，所述转轴的一端连接有转动辊，所述转动辊的相对两侧均连接有搅拌叶，所述转动辊的底端两侧均连接所述固定杆。

优选的，每个所述刮板上均开设有若干个第一通孔。

优选的，所述刮板与所述凸起为一体结构。

优选的，所述第二通孔等间距分布。

本实用新型提出的一种含铜氢氧化镍处理用反应釜，有益效果在于：

通过固定杆带动刮板转动，刮板转动后对反应釜本体的底端进行刮擦，使得沉淀不会粘结在反应釜本体上，刮板在转动过程中，第一通孔减小刮板所受到的阻力，同时水流进入第二通孔从凹槽处释放，对刮板底端边缘进行冲击，使得沉淀不会粘结在刮板上。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种含铜氢氧化镍处理用反应釜的结构示意图；

图2为本实用新型提出的一种含铜氢氧化镍处理用反应釜的剖视结构示意图；

图3为本实用新型提出的一种含铜氢氧化镍处理用反应釜中刮板的结构示意图。

图中：反应釜本体1、支撑脚2、放料口3、阀门4、上盖5、进料口6、试剂进口7、固定架8、电机9、转轴10、转动辊11、搅拌叶12、固定杆13、刮板14、第一通孔15、凸起16、第二通孔17、凹槽18。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。

实施例1