[实用新型]一种新型半导体硅片割圆设备有效

专利信息
申请号: 202022292771.6 申请日: 2020-10-15
公开(公告)号: CN213945221U 公开(公告)日: 2021-08-13
发明(设计)人: 颜伟雄 申请(专利权)人: 晶智(上海)光学仪器设备有限公司
主分类号: B23K7/00 分类号: B23K7/00;B23K7/10
代理公司: 北京艾皮专利代理有限公司 11777 代理人: 杨克
地址: 201800 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 新型 半导体 硅片 设备
【权利要求书】:

1.一种新型半导体硅片割圆设备,其结构包括:割圆中心座(1)、半径杆(2)、连杆(3)、升降座(4)、立柱(5)、底座(6)、割炬(7)、工作台(8),其特征在于:

所述割圆中心座(1)与连杆(3)进行活动卡合,所述半径杆(2)通过间隙配合安装在连杆(3),所述升降座(4)通过活动卡合安装在立柱(5),所述立柱(5)通过螺栓连接在底座(6)上方,所述割炬(7)通过间隙配合安装在半径杆(2),所述工作台(8)与底座(6)进行螺栓连接;

所述工作台包括剪叉(81)、支架(82)、台面(83)、调节轴(84)、基座(85)、伸缩杆(86),所述剪叉(81)通过活动卡合安装在支架(82),所述支架(82)通过螺栓连接在基座(85),所述台面(83)与支架(82)进行螺栓连接,所述调节轴(84)通过间隙配合安装在伸缩杆(86),所述基座(85)通过螺栓连接在底座(6),所述伸缩杆(86)通过活动卡合在支架(82)。

2.根据权利要求1所述的一种新型半导体硅片割圆设备,其特征在于:所述割圆中心座(1)与割炬(7)平行,所述半径杆(2)垂直于割圆中心座(1)和割炬(7),所述半径杆(2)与升降座(4)相互平行,所述连杆(3)与立柱(5)相互平行,所述工作台(8)位于割炬(7)正下方。

3.根据权利要求1所述的一种新型半导体硅片割圆设备,其特征在于:所述台面(83)位于剪叉(81)上方,所述支架(82)通过剪叉(81)对称,所述调节轴(84)与伸缩杆(86)相互垂直,所述调节轴(84)位于剪叉(81)中间。

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