[实用新型]刻蚀治具、辅助上料盘及刻蚀治具组件有效
| 申请号： | 202022293468.8 | 申请日： | 2020-10-15 |
| 公开（公告）号： | CN213304064U | 公开（公告）日： | 2021-05-28 |
| 发明（设计）人： | 陈先明;吴耀科;彭建;李敏雄;黄本霞;王闻师 | 申请（专利权）人： | 珠海越亚半导体股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01J37/20 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人： | 俞梁清 |
| 地址： | 519175 广东省珠海*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 刻蚀 辅助 上料盘 组件 | ||
1.一种刻蚀治具，用于等离子刻蚀工艺中固定基板，其特征在于，包括：
结构相同的第一夹板和第二夹板，所述第一夹板和所述第二夹板的上表面和下表面均涂覆有金属涂层，所述第一夹板和所述第二夹板上均设置有开窗；
多个夹具，安装在所述第一夹板和所述第二夹板的边缘，用于所述第一夹板和所述第二夹板的固定。
2.根据权利要求1所述的刻蚀治具，其特征在于，在所述第一夹板和所述第二夹板的边缘设置有多个卡槽，多个所述夹具分别对应安装在多个所述卡槽处使所述第一夹板和所述第二夹板定位固定。
3.根据权利要求1所述的刻蚀治具，其特征在于，所述第一夹板和所述第二夹板上还设置有多个定位孔，分布在所述开窗边缘，用于与辅助上料盘配合使基板固定在所述第一夹板和所述第二夹板之间。
4.根据权利要求1所述的刻蚀治具，其特征在于，所述金属涂层为铜涂层。
5.一种辅助上料盘，用于配合权利要求1至4任一所述的刻蚀治具，其特征在于，包括：
第一台面；
设置在所述第一台面上表面的第二台面，所述第一台面的长度和宽度大于所述第二台面，所述第二台面的长度和宽度等于开窗的长度和宽度；
设置在所述第一台面上的定位柱，所述定位柱可穿过刻蚀治具的定位孔，使刻蚀治具固定在辅助上料盘上。
6.根据权利要求5所述的辅助上料盘，其特征在于，所述第一台面的长度和宽度小于刻蚀治具的第一夹板或者第二夹板的长度和宽度。
7.根据权利要求5所述的辅助上料盘，其特征在于，所述第二台面的高度大于等于刻蚀治具的第一夹板或第二夹板的高度。
8.一种刻蚀治具组件，用于等离子刻蚀工艺中固定基板，其特征在于，包括：
权利要求1至4任一所述的刻蚀治具以及权利要求5至7任一所述的辅助上料盘。
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