[实用新型]用于直写光刻机的精密定位步进系统及直写光刻机

权利要求书

1.一种用于直写光刻机的精密定位步进系统，其特征在于，包括：

底座，所述底座包括两个立柱和横梁，两个所述立柱沿第一方向间隔设置，所述横梁连接在两个所述立柱的顶部，所述横梁上形成有沿所述第一方向延伸的第一长条形孔且所述第一长条形孔沿上下方向贯穿所述横梁；

精密定位步进轴，所述精密定位步进轴设在所述横梁上，且所述精密定位步进轴包括滑座，所述滑座沿所述第一方向可移动；

光路装置，所述光路装置穿设在所述滑座上，所述光路装置的在所述第一方向上的曝光中心轴线与所述第一长条形孔的在所述第一方向上的中心轴线上下对齐。

2.根据权利要求1所述的用于直写光刻机的精密定位步进系统，其特征在于，所述滑座上形成有沿所述第一方向延伸的第二长条形孔，所述光路装置穿过所述第二长条形孔设置在所述滑座上。

3.根据权利要求1所述的用于直写光刻机的精密定位步进系统，其特征在于，所述精密定位步进轴进一步包括：

两个导轨，两个所述导轨均设在所述横梁上且均沿所述第一方向延伸，所述滑座可滑动地安装在两个所述导轨上。

4.根据权利要求3所述的用于直写光刻机的精密定位步进系统，其特征在于，两个所述导轨相对于所述第一长条形孔的在所述第一方向上的所述中心轴线对称设置在所述横梁的边缘处。

5.根据权利要求2所述的用于直写光刻机的精密定位步进系统，其特征在于，所述第一长条形孔的沿所述第一方向的中心轴线与所述横梁的沿所述第一方向的中心轴线上下对齐，所述第二长条形孔的沿所述第一方向的中心轴线与所述滑座的沿所述第一方向的中心轴线上下对齐。

6.根据权利要求1-5中任一项所述的用于直写光刻机的精密定位步进系统，其特征在于，所述精密定位步进轴进一步包括：

并联连接的两个直线电机，每个所述直线电机包括定子和动子，两个所述定子均设在所述横梁上且分别位于所述第一长条形孔的两侧，每个所述定子均沿所述第一方向延伸，两个所述动子均设在所述滑座的与所述底座相对的表面上且分别位于所述第一长条形孔的两侧，两个所述直线电机用于驱动所述滑座沿所述第一方向移动。

7.根据权利要求1-5中任一项所述的用于直写光刻机的精密定位步进系统，其特征在于，所述底座为大理石底座。

8.一种直写光刻机，其特征在于，包括根据权利要求1-7中任一项所述的用于直写光刻机的精密定位步进系统。

9.根据权利要求8所述的直写光刻机，其特征在于，进一步包括：

至少一个精密定位扫描轴，所述精密定位扫描轴设在所述横梁的下方，所述精密定位扫描轴在所述第一方向所在水平面内，沿与所述第一方向垂直的第二方向延伸，且所述精密定位扫描轴沿所述第二方向可移动。

10.根据权利要求9所述的直写光刻机，其特征在于，进一步包括：

至少一个精密定位升降轴，所述精密定位升降轴可上下移动地设在所述精密定位扫描轴上。