[实用新型]用于直写光刻机的精密定位步进系统及直写光刻机

说明书

本实用新型公开了一种用于直写光刻机的精密定位步进系统及直写光刻机，所述精密定位步进系统包括：底座，所述底座包括两个立柱和横梁，两个所述立柱沿第一方向间隔设置，所述横梁连接在两个所述立柱的顶部，所述横梁上形成有沿所述第一方向延伸的第一长条形孔且所述第一长条形孔沿上下方向贯穿所述横梁；精密定位步进轴，所述精密定位步进轴设在所述横梁上，且所述精密定位步进轴包括滑座，所述滑座沿所述第一方向可移动；光路装置，所述光路装置穿设在所述滑座上，所述光路装置的在所述第一方向上的曝光中心轴线与所述第一长条形孔的在所述第一方向上的中心轴线上下对齐。根据本实用新型的用于直写光刻机的精密定位步进系统，应用于直写光刻机时，直写光刻机的曝光良率和曝光精度得到提高。

技术领域

本实用新型涉及制版光刻技术领域，尤其是涉及一种用于直写光刻机的精密定位步进系统及直写光刻机。

背景技术

相关技术中，光刻机的精密定位运动平台是光刻机必备的关键组件，包括精密定位扫描轴、精密定位升降轴和精密定位步进轴。精密定位运动平台可以保证在扫描曝光和步进运动中，光刻机的部件随精密定位运动平台的移动而沿着正确的轨迹到达准确的位置。然而，现有光刻机的光路装置的曝光中心位置离精密定位运动平台的运动中心位置较远，导致光刻机的曝光存在较大的阿贝误差，以致光刻机的曝光良率较低，并且导致精密定位运动平台的动态特性影响光刻机的曝光精度以致光刻机的曝光精度较低。

实用新型内容

本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本实用新型的一个目的在于提出一种用于直写光刻机的精密定位步进系统，该精密定位步进系统应用于直写光刻机时，使直写光刻机的曝光良率和曝光精度得到提高。

根据本实用新型的另一个目的在于提出一种具有上述精密定位步进系统的直写光刻机。

根据本实用新型第一方面实施例的用于直写光刻机的精密定位步进系统，包括：底座，所述底座包括两个立柱和横梁，两个所述立柱沿第一方向间隔设置，所述横梁连接在两个所述立柱的顶部，所述横梁上形成有沿所述第一方向延伸的第一长条形孔且所述第一长条形孔沿上下方向贯穿所述横梁；精密定位步进轴，所述精密定位步进轴设在所述横梁上，且所述精密定位步进轴包括滑座，所述滑座沿所述第一方向可移动；光路装置，所述光路装置穿设在所述滑座上，所述光路装置的在所述第一方向上的曝光中心轴线与所述第一长条形孔的在所述第一方向上的中心轴线上下对齐。

根据本实用新型实施例的用于直写光刻机的精密定位步进系统，通过在横梁上形成有沿第一方向延伸的第一长条形孔且第一长条形孔沿上下方向贯穿横梁，精密定位步进轴设在横梁上，并使光路装置穿设在沿第一方向可移动的精密定位步进轴的滑座上，且使光路装置的在第一方向上的曝光中心轴线与第一长条形孔的在第一方向上的中心轴线上下对齐，当应用于直写光刻机时，使得直写光刻机结构紧凑，降低了精密定位步进轴动态特性对直写光刻机曝光的影响，阿贝误差小，曝光良率和曝光精度高。

根据本实用新型的一些实施例，所述滑座上形成有沿所述第一方向延伸的第二长条形孔，所述光路装置穿过所述第二长条形孔设置在所述滑座上。

根据本实用新型的一些实施例，所述精密定位步进轴进一步包括：两个导轨，两个所述导轨均设在所述横梁上且均沿所述第一方向延伸，所述滑座可滑动地安装在两个所述导轨上。

根据本实用新型的一些实施例，两个所述导轨相对于所述第一长条形孔的在所述第一方向上的所述中心轴线对称设置在所述横梁的边缘处。

根据本实用新型的一些实施例，所述第一长条形孔的沿所述第一方向的中心轴线与所述横梁的沿所述第一方向的中心轴线上下对齐，所述第二长条形孔的沿所述第一方向的中心轴线与所述滑座的沿所述第一方向的中心轴线上下对齐。