[实用新型]一种多层瓷介电容表面处理工程用的新型滚筒

权利要求书

1.一种多层瓷介电容表面处理工程用的新型滚筒，包括滚筒本体（1），其特征在于：所述滚筒本体（1）的一侧外壁上通过螺栓固定连接有转套（2），且滚筒本体（1）的内部中央位置处嵌入有导电杆（3），所述导电杆（3）的一侧外壁上通过螺纹旋合连接有阴极本体（4），所述阴极本体（4）上远离导电杆（3）的一端设置有螺纹头（5），所述螺纹头（5）的一侧外壁上通过螺纹旋合连接有螺纹套（6），所述螺纹套（6）上远离阴极本体（4）的一端设置有阴极头（7），所述滚筒本体（1）的一侧内壁上置有凸起（8）。

2.根据权利要求1所述的一种多层瓷介电容表面处理工程用的新型滚筒，其特征在于：所述滚筒本体（1）为六棱柱体结构。

3.根据权利要求1所述的一种多层瓷介电容表面处理工程用的新型滚筒，其特征在于：所述阴极本体（4）的底部距离滚筒本体（1）内壁有1-2公分的距离。

4.根据权利要求1所述的一种多层瓷介电容表面处理工程用的新型滚筒，其特征在于：所述导电杆（3）、阴极本体（4）和螺纹套（6）的一侧外壁上均设置有绝缘层，所述阴极头（7）表面光滑。

5.根据权利要求1所述的一种多层瓷介电容表面处理工程用的新型滚筒，其特征在于：所述阴极头（7）垂直于滚筒本体（1）转动面。

6.根据权利要求1所述的一种多层瓷介电容表面处理工程用的新型滚筒，其特征在于：所述阴极本体（4）共设置有三个，且三个阴极本体（4）对称设置在导电杆（3）的一侧外壁上。