[实用新型]一种清理MOCVD上喷淋头的工具

说明书

本实用新型公开了一种清理MOCVD上喷淋头的工具，包括与喷淋头匹配的圆形支架，所述圆形支架固定在喷淋头上；所述圆形支架上设有固定导轨，所述固定导轨上滑动设有基板，所述基板上设置有伸缩导轨，所述伸缩导轨的移动轨迹与固定导轨的移动方向在空间上垂直分布；所述伸缩导轨上设置有刷头安装座，所述刷头安装座上设置有与喷淋头接触的刷头。本实用新型一旦固定在喷淋头上时，其上的刷头与喷淋头的距离就固定了，从而刷头抵触喷淋头的力量也会固定下来，相比人工刷喷淋头，其受力均衡，对喷淋头的清理效果好，也减轻喷淋头清理时的劳动强度。

技术领域

本实用新型涉及MOCVD维护技术领域，尤其涉及一种清理垂直式喷淋头MOCVD上喷淋头的工具。

背景技术

MOCVD(金属有机源化学气相沉积设备)，是一种在高温腔体内利用气相源进行化合物沉积的设备。技术要点为将衬底(蓝宝石、硅片等基板)放置于石墨盘上，在一定温度和压力下，通入化学元素周期表III/V族气体，III/V族气体会在衬底表面合成化合物，该化合物会沿衬底晶相沉积(俗称外延生长)。

如图1为垂直式喷淋头MOCVD设备的反应室结构，III/V族气体通过喷淋头C喷出，在衬底E上形成化合物薄膜(衬底E放置在石墨舟F上，石墨舟F下方设有加热系统G)。在衬底E上形成化合物薄膜的同时，也会有部分化学反应是在喷淋头C附近发生，会导致沉积物沉积在喷淋头C上，这些沉积物需要定期清理。目前所采用的是人工刷的方式，人工刷喷淋头，会出现由于不同操作人员经验不同，刷的干净程度也不相同，这些都会影响后续生产的产品品质。

实用新型内容

为克服上述缺点，本实用新型的目的在于提供一种清理MOCVD上喷淋头的工具，提高刷喷淋头的效果，减轻工人的工作量。

为了达到以上目的，本实用新型采用的技术方案是：一种清理MOCVD上喷淋头的工具，包括与喷淋头匹配的圆形支架，所述圆形支架固定在喷淋头上；所述圆形支架上设有固定导轨，所述固定导轨上滑动设有基板，所述基板上设置有伸缩导轨，所述伸缩导轨的移动轨迹与固定导轨的移动方向在空间上垂直分布；所述伸缩导轨上设置有刷头安装座，所述刷头安装座上设置有与喷淋头接触的刷头。

进一步来说，所述刷头安装座上设置有向外伸出的握持端。

进一步来说，所述握持端由四根棒体组成，四根所述棒体分布在刷头安装座的前后左右四个方位。

人员手动握持棒体，推动刷头安装座移动，进而带动刷头移动，实现喷淋头的清洁。

进一步来说，所述圆形支架的边缘环形阵列分布有若干个等高的支撑柱，所述支撑柱的上端通过螺丝固定在喷淋头上。

进一步来说，所述基板的侧壁上设有缓冲件，该缓冲件采用橡胶材质，使其本身具有一定弹性，用以保护基板。

进一步来说，所述固定导轨的中心线与圆形支架的直径重合，所述伸缩导轨为多节伸缩导轨，所述伸缩导轨的伸缩范围大于或等于喷淋头的直径。

与现有技术相比，本实用新型一旦固定在喷淋头上时，其上的刷头与喷淋头的距离就固定了，从而刷头抵触喷淋头的力量也会固定下来，相比人工刷喷淋头，其受力均衡，对喷淋头的清理效果好，也减轻喷淋头清理时的劳动强度。

附图说明

图1为现有技术中反应室内的部件分布示意图。

图2为本实用新型实施例的第一状态结构示意图。

图3为本实用新型实施例的第二状态结构示意图。

图4为本实用新型实施例的第三状态结构示意图。

图中：

1－圆形支架；2－固定导轨；3－基板；4－伸缩导轨；5－刷头安装座；6－刷头。

具体实施方式