[实用新型]一种光刻机基底架的精密抛光装置有效

专利信息
申请号: 202022369790.4 申请日: 2020-10-22
公开(公告)号: CN213615973U 公开(公告)日: 2021-07-06
发明(设计)人: 胡志华;何平 申请(专利权)人: 苏州航菱微精密组件有限公司
主分类号: B24B29/02 分类号: B24B29/02;B24B7/10;B24B55/06;B24B55/02;B24B47/12;B24B41/06
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215000 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 光刻 基底 精密 抛光 装置
【权利要求书】:

1.一种光刻机基底架的精密抛光装置,其特征在于,包括:

箱体(1),所述箱体(1)内固定安装有吸尘设备(2)、电机(3)和冷风机(4),所述箱体(1)的顶部开设有圆孔(18)、吸尘孔(21)和冷风孔(41);

所述圆孔(18)内固定安装有轴承(17),所述轴承(17)的一端固定连接有电机(3)的传动轴(19),所述轴承(17)的另一端固定安装有旋转轴(16),所述旋转轴(16)的一端固定安装有磨盘(12);

所述吸尘孔(21)的一端与所述吸尘设备(2)相连通,所述冷风孔(41)与所述冷风机(4)相连通;

所述箱体(1)上固定连接有环形挡板(13),所述环形挡板(13)内壁上固定连接有环形卡条(14),所述箱体(1)上还固定连接有弹簧支撑柱(6),所述弹簧支撑柱(6)的一端固定连接有盖板(9),所述盖板(9)的两侧固定连接有挂钩(8),所述盖板(9)的底部固定连接有橡胶压板(11),所述箱体(1)的两侧固定连接有拉紧扣(5)。

2.根据权利要求1所述的一种光刻机基底架的精密抛光装置,其特征在于:所述箱体(1)为圆柱形结构。

3.根据权利要求1所述的一种光刻机基底架的精密抛光装置,其特征在于:所述拉紧扣(5)设置有两组,且所述拉紧扣(5)上安装有用于拉紧所述挂钩(8)的拉绳(7)。

4.根据权利要求1所述的一种光刻机基底架的精密抛光装置,其特征在于:所述环形卡条(14)上固定连接有环形橡胶垫(15),所述环形橡胶垫(15)上放置有圆架(10)。

5.根据权利要求1所述的一种光刻机基底架的精密抛光装置,其特征在于:所述冷风机(4)的一侧开设有冷风口(42)。

6.根据权利要求1所述的一种光刻机基底架的精密抛光装置,其特征在于:所述磨盘(12)设置为树脂磨盘。

7.根据权利要求1所述的一种光刻机基底架的精密抛光装置,其特征在于:所述环形挡板(13)为不锈钢挡板。

8.根据权利要求1所述的一种光刻机基底架的精密抛光装置,其特征在于:所述箱体(1)的两侧开设有维修口(20)。

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