[实用新型]一种光刻机基底架的精密抛光装置

说明书

本实用新型公开了一种光刻机基底架的精密抛光装置，包括箱体，箱体内固定安装有吸尘设备、电机和冷风机，箱体的顶部开设有圆孔、吸尘孔和冷风孔，圆孔内固定安装有轴承，轴承的一端固定连接有电机的传动轴，轴承的另一端固定安装有旋转轴，旋转轴的一端固定安装在有磨盘，箱体上固定连接有环形挡板，环形挡板内壁上固定连接有环形卡条，箱体上还固定连接有弹簧支撑柱，弹簧支撑柱的一端固定连接有盖板，盖板的两侧固定连接有挂钩，盖板的底部固定连接有橡胶压板；本申请，能够对圆架进行密封打磨，避免粉尘飞扬，避免了粉尘对操作人员造成身体伤害，避免了浪费水资源和避免了圆架与水接触氧化，增加了基底架的使用寿命。

技术领域

本实用新型涉及抛光装置技术领域，具体为一种光刻机基底架的精密抛光装置。

背景技术

光刻机又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

光刻机基底架在安装前需要进行精密抛光，现有的基底架抛光大部分是露天操作，会产生粉尘，操作人员在呼吸时容易将粉尘吸入到肺部内部，增加操作人员的患病风险，且大部分抛光设备在运行时需要用水对磨盘进行降温，但用水降温时，基底架与水接触容易氧化，降低基底架的使用寿命。因此，提出一种光刻机基底架的精密抛光装置。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种光刻机基底架的精密抛光装置，以解决上述背景技术中提出现有的基底架抛光大部分是露天操作，会产生粉尘，操作人员在呼吸时容易将粉尘吸入到肺部内部，增加操作人员的患病风险，且大部分抛光设备在运行时需要用水对磨盘进行降温，但用水降温时，基底架与水接触容易氧化，降低基底架的使用寿命的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种光刻机基底架的精密抛光装置，包括：

箱体，所述箱体内固定安装有吸尘设备、电机和冷风机，所述箱体的顶部开设有圆孔、吸尘孔和冷风孔；

所述圆孔内固定安装有轴承，所述轴承的一端固定连接有电机的传动轴，所述轴承的另一端固定安装有旋转轴，所述旋转轴的一端固定安装在有磨盘；

所述吸尘孔的一端与所述吸尘设备相连通，所述冷风孔与所述冷风机相连通；

所述箱体上固定连接有环形挡板，所述环形挡板内壁上固定连接有环形卡条，所述箱体上还固定连接有弹簧支撑柱，所述弹簧支撑柱的一端固定连接有盖板，所述盖板的两侧固定连接有挂钩，所述盖板的底部固定连接有橡胶压板，所述箱体的两侧固定连接有拉紧扣。

通过采用上述技术方案，首先启动箱体内的电机、冷风机和吸尘设备，然后将圆架放置到环形挡板内的环形卡条上，将拉紧扣上的拉绳扣到盖板上的挂钩上，将圆架向下压紧并与磨盘相贴合，整体圆架位于环形挡板内，在对圆架进行密封打磨时，避免粉尘飞扬，吸尘设备能够将打磨的粉尘吸附收集，避免了粉尘对操作人员造成身体伤害，其次通过电机带动磨盘旋转，将圆架的上表面打磨光滑，冷风机吹冷风为磨盘降温，避免了浪费水资源和避免了圆架与水接触氧化，增加了基底架的使用寿命。

优选的，所述箱体为圆柱形结构。

通过采用上述技术方案，箱体设置为圆柱结构能够与环形挡板相配合。

优选的，所述拉紧扣设置有两组，且所述拉紧扣上安装有用于拉紧所述挂钩的拉绳。

通过采用上述技术方案，通过拉绳能够将盖板向下拉紧，盖板将圆架向下压并与磨盘相接触。

优选的，所述环形卡条上固定连接有环形橡胶垫，所述环形橡胶垫上放置有圆架。

通过采用上述技术方案，环形橡胶垫能够对圆架进行减震，更好的保护圆架。

优选的，所述冷风机的一侧开设有冷风口。