[实用新型]一种适用于对上部电极和扩散器进行表面处理的升降装置

权利要求书

1.一种适用于对上部电极和扩散器进行表面处理的升降装置，包括有处理池、分别设置于处理池池口两侧的支架、横杆以及上部挂装在横杆上、下部垂入处理池内的工件，其特征在于：所述支架的底部安装有呈竖向设置的气缸，所述气缸的活塞杆的端部固定连接有顶杆，顶杆的顶端固定连接有定位座，所述的定位座上设有定位槽，所述支架的顶部分别安装有对所述顶杆进行导向的第一导向机构和对所述定位座进行导向的第二导向机构；所述的横杆架设在两侧的所述定位座上的定位槽内，所述气缸的活塞杆周期性伸缩，带动所述的工件在所述处理池内周期性升降。

2.根据权利要求1所述的一种适用于对上部电极和扩散器进行表面处理的升降装置，其特征在于：所述气缸的活塞杆的端部设有外螺纹，所述顶杆的下端设有螺孔，顶杆通过螺纹配合固定连接在所述气缸的活塞杆的端部。

3.根据权利要求2所述的一种适用于对上部电极和扩散器进行表面处理的升降装置，其特征在于：所述的顶杆均采用不锈钢镀铬轴。

4.根据权利要求1所述的一种适用于对上部电极和扩散器进行表面处理的升降装置，其特征在于：所述的定位座采用聚丙烯块，所述的定位槽为设于所述定位座上表面的V形槽。

5.根据权利要求1所述的一种适用于对上部电极和扩散器进行表面处理的升降装置，其特征在于：所述的第一导向机构包括有固定安装在所在支架顶部的导向套，所述的顶杆自下而上穿过所述导向套并延伸出，且顶杆的外壁与所述导向套的内壁滑动配合。

6.根据权利要求5所述的一种适用于对上部电极和扩散器进行表面处理的升降装置，其特征在于：所述的导向套采用锡青铜套筒。

7.根据权利要求1所述的一种适用于对上部电极和扩散器进行表面处理的升降装置，其特征在于：所述的第二导向机构包括有固定安装在所述支架的顶部的二个竖向导轨，所述定位座的两侧分别对应固定连接有二个移动座，所述的二个移动座上均安装有对应沿所述二个竖向导轨行走的滚轮组。

8.根据权利要求7所述的一种适用于对上部电极和扩散器进行表面处理的升降装置，其特征在于：所述的二个竖向导轨均采用不锈钢镜面管，所述的滚轮组包括有二个PE滚轮。

9.根据权利要求1所述的一种适用于对上部电极和扩散器进行表面处理的升降装置，其特征在于：还包括有控制器和触摸屏，所述气缸的供气回路中安装有电磁阀，所述的控制器分别与所述触摸屏和电磁阀电连接。