[实用新型]一种提升反应气体扩散均匀性的扩散炉

说明书

本实用新型公开了一种提升反应气体扩散均匀性的扩散炉，包括外箱体、炉体；炉体包括炉筒、气体均布件；气体均布件的圆筒侧壁内设置有沿圆筒轴向方向延伸的环形均布腔；气体均布件的圆筒内侧壁上均匀设置有若干与环形均布腔相连通的气体均布孔；气体均布件的圆筒外侧壁上设置有与环形均布腔相连通的气体入口管；气体均布件同轴设置在炉筒内部；外箱体的一侧内侧壁上设置有能够将硅片通过炉口送至炉体内腔中的送料机构。本实用新型中环形均布腔的环形的设计以及其内侧均布的气体均布孔的设计，使反应气体由圆周的各个方向扩散至炉体内腔中，极大地提升了反应气体的扩散均匀性，从而保证硅片上生成薄膜厚度的一致性。

技术领域

本实用新型属于扩散炉技术领域，具体涉及一种提升反应气体扩散均匀性的扩散炉。

背景技术

扩散炉是半导体生产线前工序的重要工艺设备之一，用于大规模集成电路、分立器件、电力电子、光电器件和光导纤维等行业的扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺。

其中，扩散炉在使用过程中，需要将硅片传送至扩散炉炉体内，硅片在扩散炉炉内与反应气体进行相应反应，从而在硅片表面不断生成二氧化硅膜。

但是，现有扩散炉炉体内，反应气体不能均匀的扩散到炉体内腔内，从而导致硅片生成的薄膜厚度不均。

因此，亟需设计一种能够提升反应气体扩散均匀性的扩散炉。

实用新型内容

本实用新型的目的是为克服上述现有技术的不足，提供一种提升反应气体扩散均匀性的扩散炉。

为实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案：

一种提升反应气体扩散均匀性的扩散炉，包括外箱体以及设置在外箱体内部的炉体；

所述炉体包括炉筒、气体均布件；所述炉筒呈两端封堵的卧式圆筒结构；所述炉筒的一端设置炉口；所述炉筒通过炉筒底座固定设置在外箱体内底面上；

所述气体均布件呈圆筒状结构，所述气体均布件的圆筒侧壁内设置有沿圆筒轴向方向延伸的环形均布腔；所述气体均布件的圆筒内侧壁上均匀设置有若干与环形均布腔相连通的气体均布孔；所述气体均布件的圆筒外侧壁上设置有与环形均布腔相连通的气体入口管；

所述气体均布件同轴设置在炉筒内部，所述炉筒的侧壁上、外箱体的侧壁上均设置有供气体入口管穿过的通孔；

所述炉筒的侧壁上设置有排气管，所述排气管延伸至外箱体的外部；

所述外箱体的一侧内侧壁上设置有能够将硅片通过炉口送至炉体内腔中的送料机构；

所述送料机构包括送料电机、送料螺杆、送料滑座、送料导轨；

所述送料电机固定设置在外箱体的一侧内侧壁上；

所述送料螺杆的一端与送料电机的转轴端部进行同轴固定连接；

所述送料滑座的中部螺纹孔与送料螺杆进行螺纹连接；所述送料滑座的侧面与送料导轨进行沿送料螺杆轴向方向的滑动连接；

所述送料滑座的上部设置有用来夹持硅片的夹头；所述夹头包括呈U型结构的调节座，所述调节座的开口面向炉体的炉口；所述调节座的两块水平板之间设置两块上下对称的水平夹持板；两块水平夹持板相向的侧面上沿长度方向对称设置有若干夹持柱；

所述调节座上设置有用来控制两块水平夹持板进行同步相向运动或同步背向运动的调节件；

所述调节座中竖直板的外端面通过L型支架与送料滑座的顶端固定连接；所述L型支架上设置有能够封堵炉口的封堵板。

优选的，所述炉筒包括左右对称设置的第一炉筒和第二炉筒；

所述第一炉筒的右端设置第一连接法兰；所述第二炉筒的左端设置第二连接法兰；