[实用新型]一种可调的化学气相沉淀装置

权利要求书

1.一种可调的化学气相沉淀装置，其特征是，包括沉淀筒、气体均布件、晶圆布置件；

所述沉淀筒呈两端封堵的圆筒状结构；

所述气体均布件呈圆筒状结构，所述气体均布件的圆筒侧壁内设置有沿圆筒轴向方向延伸的环形均布腔；所述气体均布件的圆筒内侧壁上均匀设置有若干与环形均布腔相连通的气体均布孔；所述气体均布件的圆筒外侧壁上设置有与环形均布腔相连通的气体入口管；

所述晶圆布置件呈圆柱状结构，所述晶圆布置件的侧壁上均匀设置有若干用来安装晶圆的夹筒；

所述夹筒包括上下对称设置的呈弧形结构的上夹持臂和呈弧形结构的下夹持臂；

所述上夹持臂固定设置在晶圆布置件的外侧壁上，所述上夹持臂的中心轴线与晶圆布置件的中心轴线垂直相交；

所述下夹持臂与晶圆布置件进行上下方向的滑动连接，所述下夹持臂的中心轴线与晶圆布置件的中心轴线垂直相交；所述下夹持臂的下壁面上连接有调节丝杆；

所述下夹持臂下方的晶圆布置件上设置有控制座，所述控制座内转动连接有调节螺母；

所述调节丝杆与调节螺母进行螺纹连接；

所述气体均布件同轴设置在沉淀筒内部，所述沉淀筒的侧壁上设置有供气体入口管穿过的通孔；

所述晶圆布置件同轴设置在气体均布件内部，所述晶圆布置件的底端与沉淀筒的内侧底端固定连接。

2.如权利要求1所述的可调的化学气相沉淀装置，其特征是，所述晶圆布置件上沿圆周方向设置有若干条沿轴向延伸的限位滑槽；

所述下夹持臂端部设置有与相应滑槽进行滑动配合的限位滑块。

3.如权利要求2所述的可调的化学气相沉淀装置，其特征是，所述限位滑块为T型滑块，所述限位滑槽为T型滑槽。

4.如权利要求1所述的可调的化学气相沉淀装置，其特征是，所述调节螺母上设置有调节把手。

5.如权利要求1所述的可调的化学气相沉淀装置，其特征是，所述沉淀筒包括上下对称设置的上沉淀筒和下沉淀筒；

所述上沉淀筒的底端设置上连接法兰；所述下沉淀筒的顶端设置下连接法兰；

所述上连接法兰、下连接法兰通过螺栓进行连接。

6.如权利要求5所述的可调的化学气相沉淀装置，其特征是，所述气体均布件的外侧壁中部设置有环形安装板；所述环形安装板上沿圆周方向均匀设置若干连接孔；

所述环形安装板位于上连接法兰、下连接法兰之间；

所述上连接法兰、环形安装板、下连接法兰通过螺栓进行连接。

7.如权利要求1所述的可调的化学气相沉淀装置，其特征是，所述气体入口管上设置入口阀门。

8.如权利要求7所述的可调的化学气相沉淀装置，其特征是，所述入口阀门前端的气体入口管上设置用来过滤气体的过滤件。

9.如权利要求8所述的可调的化学气相沉淀装置，其特征是，所述过滤件包括呈圆筒状结构的过滤筒，所述过滤筒的内侧面上沿轴向方向均匀内嵌有若干层钢丝过滤网；

所述过滤筒的两端与气体入口管进行法兰连接。