[实用新型]一种可调的化学气相沉淀装置

说明书

本实用新型公开了一种可调的化学气相沉淀装置，包括沉淀筒、气体均布件、晶圆布置件；晶圆布置件的侧壁上均匀设置有若干用来安装晶圆的夹筒；夹筒包括上下对称设置上夹持臂和下夹持臂；上夹持臂固定设置在晶圆布置件的外侧壁上；下夹持臂与晶圆布置件进行上下方向的滑动连接；下夹持臂的下壁面上连接有调节丝杆；下夹持臂下方的晶圆布置件上设置有控制座，控制座内转动连接有调节螺母；调节丝杆与调节螺母进行螺纹连接。本实用新型中夹筒的结构设置，当转动调节螺母时，调节丝杆会实现上下运动，从而带动下夹持臂靠近上夹持臂或远离上夹持臂，从而使上夹持臂与下夹持臂之间能够夹持不同粗细大小的晶圆，增大了适用性。

技术领域

本实用新型属于气相沉淀设备技术领域，具体涉及一种可调的化学气相沉淀装置。

背景技术

金属有机化合物化学气相沉淀是在气相外延生长的基础上发展起来的一种新型气相外延生产技术。目前，一般的气相沉淀设备包括加热系统、冷却系统、气体运输系统、气相沉淀系统等，其中在气相沉淀系统中，经过前面一系列处理之后的反应气体进入到沉淀腔内，并扩散至沉淀腔中的晶圆表面，在晶圆表面附近的反应区形成薄膜。

但是，现有气相沉淀设备的沉淀腔内，用来固定晶圆的夹筒不能根据晶圆的实际大小进行调节，导致适用性低。

因此，亟需设计一种能够调节夹筒开口大小的化学气相沉淀装置，使夹筒能够夹持不同大小的晶圆。

实用新型内容

本实用新型的目的是为克服上述现有技术的不足，提供一种可调的化学气相沉淀装置。

为实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案：

一种可调的化学气相沉淀装置，包括沉淀筒、气体均布件、晶圆布置件；

所述沉淀筒呈两端封堵的圆筒状结构；

所述气体均布件呈圆筒状结构，所述气体均布件的圆筒侧壁内设置有沿圆筒轴向方向延伸的环形均布腔；所述气体均布件的圆筒内侧壁上均匀设置有若干与环形均布腔相连通的气体均布孔；所述气体均布件的圆筒外侧壁上设置有与环形均布腔相连通的气体入口管；

所述晶圆布置件呈圆柱状结构，所述晶圆布置件的侧壁上均匀设置有若干用来安装晶圆的夹筒；

所述夹筒包括上下对称设置的呈弧形结构的上夹持臂和呈弧形结构的下夹持臂；

所述上夹持臂固定设置在晶圆布置件的外侧壁上，所述上夹持臂的中心轴线与晶圆布置件的中心轴线垂直相交；

所述下夹持臂与晶圆布置件进行上下方向的滑动连接，所述下夹持臂的中心轴线与晶圆布置件的中心轴线垂直相交；所述下夹持臂的下壁面上连接有调节丝杆；

所述下夹持臂下方的晶圆布置件上设置有控制座，所述控制座内转动连接有调节螺母；

所述调节丝杆与调节螺母进行螺纹连接；

所述气体均布件同轴设置在沉淀筒内部，所述沉淀筒的侧壁上设置有供气体入口管穿过的通孔；

所述晶圆布置件同轴设置在气体均布件内部，所述晶圆布置件的底端与沉淀筒的内侧底端固定连接。

优选的，所述晶圆布置件上沿圆周方向设置有若干条沿轴向延伸的限位滑槽；

所述下夹持臂端部设置有与相应滑槽进行滑动配合的限位滑块。

优选的，所述限位滑块为T型滑块，所述限位滑槽为T型滑槽。

优选的，所述调节螺母上设置有调节把手。

优选的，所述沉淀筒包括上下对称设置的上沉淀筒和下沉淀筒；

所述上沉淀筒的底端设置上连接法兰；所述下沉淀筒的顶端设置下连接法兰；