[实用新型]化学气相沉积反应腔

权利要求书

1.一种化学气相沉积反应腔，其特征在于，包含：

一腔体；

一上加热模块，设置在该腔体内的上部；

一基板承载装置，设置在该腔体内对应于该上加热模块下方的位置，用于承载至少一基板并包含至少一碟盘、一下大盘以及一上大盘，该碟盘具有一上方开放的基板槽以供该基板以反应面朝下的方式置入，该基板槽下方设有一反应口以供该基板的反应面裸露，该下大盘具有至少一个上方开放的碟盘槽以供该碟盘置入，该碟盘槽下方设有一底口以供该反应面裸露，该上大盘遮盖于该下大盘的上方并将该碟盘槽上方封闭，该上大盘的半径大于该下大盘；

一升降筒暨废气收集环，连接于该下大盘以支撑并带动该基板承载装置升降及旋转，并收集反应后的废气；

一喷头，设置在该腔体内以释出反应气体；以及

一止挡单元，设置在该腔体内壁，使得该上大盘的边沿于该升降筒暨废气收集环下降至预设高度时被该止挡单元拦阻而分离于该下大盘，待该升降筒暨废气收集环下降至最低位置时，该碟盘槽的上方以及该基板槽的上方呈现裸露状态；

该腔体的侧壁设有至少一取放口，该升降筒暨废气收集环上升至最高位置时遮蔽该取放口，该升降筒暨废气收集环下降至最低位置时开放该取放口。

2.如权利要求1所述的化学气相沉积反应腔，其特征在于，该碟盘槽设有一环槽沟，该碟盘设有一入于该环槽沟的对接部，该环槽沟内设有一环状气浮通道；该环状气浮通道以切线方向衔接一入气引道，以引入气浮气体施力于该对接部，使该碟盘悬浮及旋转；该环槽沟衔接于一第一泄出口，以供该气浮气体排出。

3.如权利要求2所述的化学气相沉积反应腔，其特征在于，以该气浮气体的引入流量大小控制该碟盘的悬浮高度。

4.如权利要求2所述的化学气相沉积反应腔，其特征在于，该基板上方与该上大盘之间保持一受热间距，该受热间距至少为该基板生成薄膜过程产生翘曲规模的20倍。

5.如权利要求2所述的化学气相沉积反应腔，其特征在于，该上大盘设有一第二泄出口与该第一泄出口衔接。

6.如权利要求1所述的化学气相沉积反应腔，其特征在于，该基板槽内壁边沿设有若干承载指以承托该基板的边沿，该承载指的顶面朝向该基板槽中心倾斜。

7.如权利要求1所述的化学气相沉积反应腔，其特征在于，其进一步包含一下加热模块，该下加热模块设置在该腔体下方。

8.如权利要求1所述的化学气相沉积反应腔，其特征在于，该升降筒暨废气收集环带动该基板承载装置旋转。

9.如权利要求1所述的化学气相沉积反应腔，其特征在于，该上大盘对应于该碟盘上方的位置设置一曲面传导区。