[实用新型]一种光刻机用晶圆片匀胶装置

说明书

本实用新型涉及晶圆片光刻技术领域，公开了一种光刻机用晶圆片匀胶装置，包括工作台，所述工作台的左端固定安装有控制开关，所述控制开关的内部设置有PLC控制器，所述工作台的上端中部固定安装有收集罩，所述工作台的内腔上端中部固定安装有电机，所述电机的上端设置有传动杆，所述电机的电机轴输出端与传动杆传动连接，所述传动杆贯穿工作台和收集罩固定连接有真空吸盘，所述收集罩的内腔下端中部设置有密封圈。本实用新型通过设置的收集罩、橡胶条、电机、传动杆、真空吸盘、密封圈、直杆、液位传感器、排液管和喇叭，解决了光刻胶污染工作环境，增加二次清理麻烦的问题，较为实用，适合广泛推广与使用。

技术领域

本实用新型涉及晶圆片光刻技术领域，具体为一种光刻机用晶圆片匀胶装置。

背景技术

光刻工艺总共包括晶圆片匀胶、曝光、显影、坚膜、腐蚀、去胶等步骤，其中，匀胶是为了使分布于晶片上的光刻胶分布均匀并能达到一定厚度，以便曝光时晶圆片表面的光刻胶都能得到适当的感光。

经检索公开号为(CN108646517A)，公开了一种光刻机用晶圆片匀胶装置，所述匀胶装置包括固定框、基座、水平调节装置、固定支架、旋转装置、真空吸盘、真空发生器、可调节弹簧和感应装置；所述基座位于固定框上部，基座用于安装固定支架。

在实现本实用新型中，发明人发现现有技术中至少存在如下问题没有得到解决：该实用新型虽然解决了涂抹不匀的问题，但是无法对甩出的光刻胶进行收集，从而导致工作环境的污染，增加二次清理的麻烦，亟需进行改进，因此，我们提出一种光刻机用晶圆片匀胶装置。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种光刻机用晶圆片匀胶装置，解决了背景技术中所提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种光刻机用晶圆片匀胶装置，包括工作台；

所述工作台的左端固定安装有控制开关，所述控制开关的内部设置有PLC控制器，所述工作台的上端中部固定安装有收集罩，所述工作台的内腔上端中部固定安装有电机，所述电机的上端设置有传动杆；

所述电机的电机轴输出端与传动杆传动连接，所述传动杆贯穿工作台和收集罩固定连接有真空吸盘，所述收集罩的内腔下端中部设置有密封圈，所述密封圈的左侧设置有直杆，所述直杆的下端与收集罩固定连接，所述直杆的左侧上端固定安装有液位传感器，所述收集罩下端的左右两侧均连通有排液管，所述工作台的上端右侧固定安装有喇叭。

作为本实用新型的一种优选实施方式，所述收集罩的内腔粘合有多组橡胶条，且所述橡胶条的剖面呈半圆形。

作为本实用新型的一种优选实施方式，所述密封圈的内腔与传动杆的外侧壁贴合，且所述密封圈采用耐腐橡胶制成。

作为本实用新型的一种优选实施方式，所述液位传感器的数据输出端与PLC控制器的数据输入端连接，所述PLC控制器的信号输出端与喇叭的信号输入端连接。

作为本实用新型的一种优选实施方式，所述控制开关经外部电源分别与电机和喇叭电性连接。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果如下：

1.本实用新型通过设置的收集罩、橡胶条、电机、传动杆、真空吸盘、密封圈、直杆、液位传感器、排液管和喇叭，使用时，首先通过收集罩对甩出的光刻胶进行收集，再通过橡胶条来起到缓冲的效果，避免光刻胶迸溅到真空吸盘上，最后汇集到收集罩底部，再通过液位传感器来监测收集量，当液位传感器监测到超过设定液位时，液位传感器把数据传输给PLC控制器，PLC控制器控制喇叭进行报警，提醒工作人员通过排液管排出收集的光刻胶，解决了光刻胶污染工作环境，增加二次清理麻烦的问题，有利于更为实用的使用一种光刻机用晶圆片匀胶装置。