[实用新型]一种用于生产硅氧负极材料基于CVD工艺的加工设备有效
申请号: | 202022450902.9 | 申请日: | 2020-10-29 |
公开(公告)号: | CN213925013U | 公开(公告)日: | 2021-08-10 |
发明(设计)人: | 岩永贤吾;杨伟 | 申请(专利权)人: | 佛山高砂工业窑炉有限公司 |
主分类号: | C23C16/56 | 分类号: | C23C16/56;C23C16/26;H01M4/38;H01M4/583;F27B9/04;F27B9/06;F27B9/12;F27B9/24;F27D15/02;F27D17/00;F23G7/06 |
代理公司: | 广州市智远创达专利代理有限公司 44619 | 代理人: | 卓幼红 |
地址: | 528000 广东省佛山市禅城区*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 生产 负极 材料 基于 cvd 工艺 加工 设备 | ||
1.一种用于生产硅氧负极材料基于CVD工艺的加工设备,包括加热结构,其特征在于,所述加热结构包括加热室(3)、燃气燃烧嘴(4)、加热驱动马达(5)、加热旋转框(6)和辅热板(19),所述加热结构侧壁安装有自动供料机(1),所述加热结构远离自动供料机(1)的一侧安装有过筛结构,所述过筛结构包括过筛板(7)和导料管(8),所述过筛结构顶端安装有排气结构,所述排气结构包括燃气处理炉(20)、集尘机(21)和排气风机(22),所述过筛结构远离加热结构的一侧设置有冷却结构,所述冷却结构包括冷却室(10)、冷却驱动马达(11)、冷却旋转框(13)、冷却喷淋头(14)和冷却水打入水站(18),所述冷却结构远离过筛结构的一侧安装有回收结构,所述回收结构包括排料管(15)和回收机(16),所述加热结构和冷却结构连接有气氛打入结构,所述气氛打入结构包括加热气体注入阀(2)、冷却气体注入阀(9)和气氛打入气站(17)。
2.根据权利要求1所述的一种用于生产硅氧负极材料基于CVD工艺的加工设备,其特征在于,所述自动供料机(1)、加热结构、过筛结构、排气结构、冷却结构、回收结构和气氛打入结构连接处均做密封处理,且均设置有密封垫片,所述加热结构采用耐高温合金钢制作。
3.根据权利要求1所述的一种用于生产硅氧负极材料基于CVD工艺的加工设备,其特征在于,所述气氛打入气站(17)通过管道与加热气体注入阀(2)和冷却气体注入阀(9)连接,所述加热气体注入阀(2)和冷却气体注入阀(9)分别位于加热室(3)和冷却室(10) 的入口处。
4.根据权利要求1所述的一种用于生产硅氧负极材料基于CVD工艺的加工设备,其特征在于,所述回收机(16)通过排料管(15)与冷却室(10)出口固定连接。
5.根据权利要求1所述的一种用于生产硅氧负极材料基于CVD工艺的加工设备,其特征在于,所述冷却驱动马达(11)位于冷却室(10)顶端,且冷却驱动马达(11)的输出轴贯穿冷却室(10)侧壁与冷却旋转框(13)转动连接,所述冷却喷淋头(14)位于冷却室(10)内侧,所述冷却喷淋头(14)呈均匀分布在冷却室(10)上,且均与冷却水打入水站(18)通过管道固定连接。
6.根据权利要求1所述的一种用于生产硅氧负极材料基于CVD工艺的加工设备,其特征在于,所述过筛板(7)与加热旋转框(6)连接,所述导料管(8)连接过筛板(7)和冷却室(10)。
7.根据权利要求1所述的一种用于生产硅氧负极材料基于CVD工艺的加工设备,其特征在于,所述集尘机(21)连接燃气处理炉(20)的排气口和排气风机(22),所述燃气处理炉(20)远离集尘机(21)的一侧与过筛板(7)远离导料管(8)的一侧连接。
8.根据权利要求1所述的一种用于生产硅氧负极材料基于CVD工艺的加工设备,其特征在于,所述加热驱动马达(5)位于加热室(3)顶端,且加热驱动马达(5)的输出轴贯穿加热室(3)侧壁与加热旋转框(6)转动连接,所述加热旋转框(6)侧壁设置有辅热板(19),所述燃气燃烧嘴(4)位于加热室(3)侧壁,所述燃气燃烧嘴(4)呈均匀分布在加热室(3)侧壁,且燃气燃烧嘴(4)均贯穿加热室(3)侧壁。
9.根据权利要求1所述的一种用于生产硅氧负极材料基于CVD工艺的加工设备,其特征在于,所述冷却旋转框(13)和加热旋转框(6)内均设置有旋转叶片(12),所述旋转叶片(12)分别与冷却旋转框(13)和加热旋转框(6)内侧螺旋转动匹配。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的