[实用新型]一种用于生产硅氧负极材料基于CVD工艺的加工设备有效
申请号: | 202022450902.9 | 申请日: | 2020-10-29 |
公开(公告)号: | CN213925013U | 公开(公告)日: | 2021-08-10 |
发明(设计)人: | 岩永贤吾;杨伟 | 申请(专利权)人: | 佛山高砂工业窑炉有限公司 |
主分类号: | C23C16/56 | 分类号: | C23C16/56;C23C16/26;H01M4/38;H01M4/583;F27B9/04;F27B9/06;F27B9/12;F27B9/24;F27D15/02;F27D17/00;F23G7/06 |
代理公司: | 广州市智远创达专利代理有限公司 44619 | 代理人: | 卓幼红 |
地址: | 528000 广东省佛山市禅城区*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 生产 负极 材料 基于 cvd 工艺 加工 设备 | ||
本实用新型公开了一种用于生产硅氧负极材料基于CVD工艺的加工设备,涉及CVD工艺加工设备领域,针对现有的加工设备存在的稳定性差,气密性不好,存在安全隐患,产品合格率低,生产连续性无法保证,无法烧成硅氧负极材料电池材料的问题,现提出如下方案,其包括加热结构,所述加热结构包括加热室、燃气燃烧嘴、加热驱动马达、加热旋转框和辅热板,所述加热结构侧壁安装有自动供料机,所述加热结构远离自动供料机的一侧安装有过筛结构,所述过筛结构包括过筛板和导料管,所述过筛结构顶端安装有排气结构。本实用新型结构新颖,且密封性好,加热速度快,安全性高,维护更换速度快,避免空气污染,保护大气环境,原料二次回收利用,成本低。
技术领域
本实用新型涉及CVD工艺加工设备领域,尤其涉及一种用于生产硅氧负极材料基于CVD工艺的加工设备。
背景技术
硅氧负极材料电池材料在烧成时,需要在微量氧环境下,将碳氢类气体高温裂解成碳和氢气,其中的碳沉积包覆在硅氧负极材料原料的表面,再通过高温烧成后得到产品,CVD工艺需要满足以下的技术特点:
1)、高温环境:通常900℃~1050℃;
筒体材质氛围金属材质和非金属材质2种,非金属材质由于制造工艺的问题,外形尺寸无法过大,因此限制了产量,只能在小型实验室设备中使用,金属材质由于温度的关系,国内生产的筒体无法在 1000℃左右的温度条件下长期稳定使用,高砂回转窑筒体使用耐高温合金钢,采用独特的铸造工艺,使得筒体能在1000℃长期稳定使用;
2)、微量氧环境:筒体内氧含量要求在数十ppm以下;
达到炉内氧含量数十ppm以下的方法是往炉内打入浓度99.99%及以上的惰性气体,将炉内的空气置换出来,同时惰性气体又能起到保护金属筒体的作用,氧浓度越低,对设备气密性的要求就越高;
3)、反应气氛:通常为易燃易爆的碳氢类气体;
4)、工艺要求:碳在原料表面包覆的厚度和均匀性决定了产品品质的好坏,因此不宜静态烧成,要进行动态烧成,即使用回转窑烧成。
国内暂无能量产硅氧负极材料电池材料的设备,且传统用于生产硅氧负极材料基于CVD工艺的加工设备无法长期稳定地在高温环境下使用,无法达到客户需要的数十ppm以下的微量氧环境要求,即设备气密性不好,打入的碳氢气体高温下裂解产生的氢气容易泄露,造成安全事故,空气容易进入到设备筒体中,将原料氧化,导致烧成出来的产品不合格,使用电加热的设备加热速度慢,耗电量大,生产费用高,电加热器通常是分组安装,如果其中一组出现问题无法工作,往往需要整条窑炉停产拆卸维修,生产连续性无法保证,因此,为了解决此类问题,我们提出了一种用于生产硅氧负极材料基于CVD工艺的加工设备。
实用新型内容
本实用新型提出的一种用于生产硅氧负极材料基于CVD工艺的加工设备,解决了现有的加工设备存在的稳定性差,气密性不好,存在安全隐患,产品合格率低,生产连续性无法保证,无法烧成硅氧负极材料电池材料的问题。
为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:
一种用于生产硅氧负极材料基于CVD工艺的加工设备,包括加热结构,所述加热结构包括加热室、燃气燃烧嘴、加热驱动马达、加热旋转框和辅热板,所述加热结构侧壁安装有自动供料机,所述加热结构远离自动供料机的一侧安装有过筛结构,所述过筛结构包括过筛板和导料管,所述过筛结构顶端安装有排气结构,所述排气结构包括燃气处理炉、集尘机和排气风机,所述过筛结构远离加热结构的一侧设置有冷却结构,所述冷却结构包括冷却室、冷却驱动马达、冷却旋转框、冷却喷淋头和冷却水打入水站,所述冷却结构远离过筛结构的一侧安装有回收结构,所述回收结构包括排料管和回收机,所述加热结构和冷却结构连接有气氛打入结构,所述气氛打入结构包括加热气体注入阀、冷却气体注入阀和气氛打入气站。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的