[实用新型]一种温差控制匀胶显影加热单元有效
申请号: | 202022451162.0 | 申请日: | 2020-10-29 |
公开(公告)号: | CN213991050U | 公开(公告)日: | 2021-08-17 |
发明(设计)人: | 刘晟麟 | 申请(专利权)人: | 刘晟麟 |
主分类号: | H05B3/14 | 分类号: | H05B3/14;H05B3/36 |
代理公司: | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人: | 汤东凤 |
地址: | 065000 河北省廊坊*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 温差 控制 显影 加热 单元 | ||
本实用新型公开了一种温差控制匀胶显影加热单元,包括均热盘体,所述均热盘体分为托盘上表面板、石墨烯均温层、绝缘导热隔板、夹层加热电路与底部保温压板,所述托盘上表面板、石墨烯均温层、绝缘导热隔板、夹层加热电路与底部保温压板从上到下依次设置,托盘上表面板的表面为晶圆加热面,托盘上表面板上表面潜表处固定高精度温度传感器。该温差控制匀胶显影加热单元使得热盘均匀加热效果显著提升。
技术领域
本实用新型涉及半导体制程中匀胶显影设备技术领域,具体为一种温差控制匀胶显影加热单元。
背景技术
当前,国民经济飞速发展,各种先进设备层出不穷,为各行各业提供了强大、高效的制造能力,例如航天、航空、半导体、精密制造等领域。其中,这些领域中对加热要求与一般民用行业比有高得多的要求。例如但不限于,半导体设备中的匀胶显影设备。匀胶显影机是半导体加工工序中光刻工序前后的前烘和后烘工序所用的设备。烘干工序主要是要使显影剂中的溶剂挥发,增加光刻胶粘附性,缓和应力。如果溶剂挥发速度不一致,将会使胶面高低不平、坑坑洼洼,严重影响后道的光刻质量。随着针对半导体行业设备的生产性、品质的要求越来越高、晶圆表面温度控制已经成为左右半导体设备性能的重要一项。为此,我们提出一种温差控制匀胶显影加热单元。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种温差控制匀胶显影加热单元,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种温差控制匀胶显影加热单元,包括均热盘体,所述均热盘体分为托盘上表面板、石墨烯均温层、绝缘导热隔板、夹层加热电路与底部保温压板,所述托盘上表面板、石墨烯均温层、绝缘导热隔板、夹层加热电路与底部保温压板从上到下依次设置,托盘上表面板的表面为晶圆加热面,托盘上表面板上表面浅表处固定高精度温度传感器。
进一步地,所述托盘上表面板、石墨烯均温层、绝缘导热隔板、夹层加热电路与底部保温压板五层板压合成“五明治”结构。
进一步地,所述托盘上表面板、石墨烯均温层、绝缘导热隔板、夹层加热电路与底部保温压板五层板压合成“五明治”结构。
进一步地,所述绝缘导热隔板为具绝缘特性且导热良好的材料,包含但不限于硬质氧化铝材等。
进一步地,所述夹层加热电路选择但不限于合金金属膜,薄膜厚度100uM。
进一步地,所述底部保温压板本身具绝缘性并喷涂隔热保温涂层。
进一步地,所述五明治一、三、五三层在轴向有工艺孔贯穿,石墨烯均温层也要打孔。
进一步地,所述托盘上表面板、绝缘导热隔板接触面上设有0.1~0.2mm深的V型槽导气,各V槽线平行贯通全板,间距约15mm。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:加热时,电路通电,温度上升,热量先通过绝缘导热隔板加热石墨烯均温层下表面;下表面接收热量后,再将各处不均匀的热量横向快速传导,高效完成温度的水平通透性“涂抹”扩散;石墨烯均温层上表面再把温度大幅均匀的热量传导给托盘上表面板,这时托盘上表面板下表面温度已经非常均匀;托盘上表面板再把温度进一步均匀的热量传导给托盘上表面板顶面,完成均热传导过程,使得热盘均匀加热效果提升。
附图说明
图1本实用新型结构示意图。
图中:1、均热盘体;11、托盘上表面板;12、石墨烯均温层;13、绝缘导热隔板;14、夹层加热电路;15、底部保温压板;2、高精度温度传感器。
附图仅用于示例性说明,不能理解为对本专利的限制;为了更好说明本实施例,附图某些部件会有省略、放大或缩小,并不代表实际产品的尺寸;对于本领域技术人员来说,附图中某些公知结构及其说明可能省略是可以理解的。
具体实施方式
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